[发明专利]玻璃基板的紫外光清洗装置

说明书

技术领域

本发明涉显示屏制造领域，尤其涉及一种玻璃基板的紫外光清洗装置。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由一TFT阵列基板、一彩色滤光片基板(Color Filter，CF)、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在TFT阵列基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

目前，TFT器件制程过程中主要使用波长为172nm的紫外光(EUV)清洗机对玻璃基板表面进行清洗，可以获得很好的清洗效果，但随之也带来因静电释放(Electro-Static discharge，ESD)而导致TFT器件大面积的静电击伤的问题。特别是随着产品解析度越来越高,电极线宽越精细,其承受静电放电能力越小,越容易导致静电击伤.

如附图1是采用现有的紫外光清洗机，对完成栅电极制程后、进行绝缘层成膜前的TFT基板进行清洗后导致的静电击伤图片。

分析静电产生的原因,发现是紫外光灯发出高能光子激发金属电极电子逸出，电子在绝缘玻璃表面累积而无法缓慢的泄露出去,当累积量超出金属电极承受范围时就会造成TFT电路器件的静电击伤。

发明内容

本发明的目的在于提供一种玻璃基板的紫外光清洗装置，能够减少因紫外光清洗而导致的静电击伤，并能够增加紫外光箱内的活性氧含量，从而提高紫外光清洗效果。

为实现上述目的，本发明提供一种玻璃基板的紫外光清洗装置，包括：灯箱、置于灯箱内上方的紫外光灯、置于紫外光灯下方的透明防护罩、置于所述透明防护罩下方的加湿器、及置于所述透明防护罩下方与所述加湿器相对设置的强力排风装置；

使用时，玻璃基板被传送至所述灯箱内，所述紫外光灯发出的紫外光透过所述防护罩照射于玻璃基板上，对所述玻璃基板进行清洗，并通过所述加湿器调节所述灯箱内部的湿度和氧含量。

所述紫外光灯发出的紫外光波长为172nm。

所述防护罩上接近玻璃基板的一侧涂覆有一层透明的疏水涂层。

所述加湿器平行于所述玻璃基板的传送方向设于所述玻璃基板的上方。

所述加湿器的气流方向平行并贴近于玻璃基板的表面。

所述加湿器可以分别输出水蒸汽、氧气、氮气，以调整所述灯箱内部的湿度和氧含量。

所述的玻璃基板的紫外光清洗装置，还包括用于测量所述灯箱内部的空气湿度和氧含量的测试仪，所述测试仪设置于所述加湿器附近。

所述强力排风装置的排风量可调。

使用时，根据玻璃基板的耐静电能力对所述灯箱内的湿度和氧含量进行调整。

本发明的有益效果：本发明的玻璃基板的紫外光清洗装置，在紫外光清洗装置中加入加湿器和强力排风装置，使用时，可根据基板的耐静电能力，通过控制加湿器和强力排风装置自由调节紫外光灯箱内部的湿度和氧含量，使玻璃基板表面吸附一层水分子，紫外光干式清洗时产生的电子可通过水分子逐渐传导泄露，可有效抑制静电的积累，减少静电击伤现象，同时氧含量的增加使灯箱内氧活性原子浓度也随之增加，从而提高了紫外光清洗有机物的效果。

为了能更进一步了解本发明的特征以及技术内容，请参阅以下有关本发明的详细说明与附图，然而附图仅提供参考与说明用，并非用来对本发明加以限制。

附图说明

下面结合附图，通过对本发明的具体实施方式详细描述，将使本发明的技术方案及其他有益效果显而易见。

附图中，

图1为采用现有紫外光清洗机对TFT基板清洗后造成的静电击伤图片；

图2为本发明玻璃基板的紫外光清洗装置的结构示意图。

具体实施方式

为更进一步阐述本发明所采取的技术手段及其效果，以下结合本发明的实施例及其附图进行详细描述。