[发明专利]玻璃基纳米银线透明导电薄膜及制备方法

权利要求书

1.一种玻璃基纳米银线透明导电薄膜，其特征在于，该导电薄膜包括：

透明高分子薄膜，覆盖在透明玻璃基板表面；

若干纳米银线，分散相互搭接镶嵌在所述透明高分子薄膜表面，在所述透明高分子薄膜表面形成纳米银线网格层。

2.如权利要求1所述的玻璃基纳米银线透明导电薄膜，其特征在于，所述透明高分子薄膜的厚度大于50nm。

3.如权利要求1或2所述的玻璃基纳米银线透明导电薄膜，其特征在于，所述纳米银线为：直径30～100nm、长度为20～70μm的纯净银线；

所述透明高分子薄膜的厚度为所述纳米银线直径的2倍。

4.如权利要求1所述的玻璃基纳米银线透明导电薄膜，其特征在于，所述透明高分子薄膜的材料采用：透光性好、亲水性好、非水溶性、软化温度160℃以下的树脂材料。

5.如权利要求1或4所述的玻璃基纳米银线透明导电薄膜，其特征在于，所述透明高分子薄膜的材料采用丙烯酸树脂、聚氨酯树脂、聚硅脂树脂或高透明光学涂料中的任一种。

6.一种玻璃基纳米银线透明导电薄膜的制备方法，其特征在于，用于制备权利要求1所述的导电薄膜，包括以下步骤：

在透明玻璃基板表面刮涂形成透明高分子薄膜；

在所述透明高分子薄膜表明刮涂分散有若干纳米银线的纳米银线分散液；

对刮涂所述水基纳米银线分散液的所述透明高分子薄膜表明进行热压，使若干纳米银线分散相互搭接镶嵌在所述透明高分子薄膜表面，在所述透明高分子薄膜表面形成纳米银线网格层。

7.如权利要求6所述的玻璃基纳米银线透明导电薄膜的制备方法，其特征在于，所述在透明玻璃基板表面刮涂形成透明高分子薄膜为：

采用刮涂器将易挥发溶剂稀释的透明高分子薄膜材料刮涂在所述透明玻璃基板表面形成透明高分子薄膜，由刮涂器和/或透明高分子薄膜材料的稀释度来调节所得到的透明高分子薄膜的厚度。

8.如权利要求6所述的玻璃基纳米银线透明导电薄膜的制备方法，其特征在于，所述纳米银线分散液中，纳米银线含量为0.1wt％～5wt％；

若透明高分子薄膜材料为亲水性，纳米银线分散液采用水基纳米银线分散液；

若透明高分子薄膜材料为亲醇性，纳米银线分散液采用醇基纳米银线分散液。

9.如权利要求6所述的玻璃基纳米银线透明导电薄膜的制备方法，其特征在于，所述热压的温度比透明高分子薄膜材料的软化温度出5～20℃，热压温度范围为80～160℃；

热压的压强大于3公斤/cm²；

热压所用的压辊的压面包覆耐温高于热压温度的硅橡胶膜。

10.如权利要求6至9任一项所述的玻璃基纳米银线透明导电薄膜的制备方法，其特征在于，所述透明高分子薄膜一次刮涂成型，所述纳米银线分散液刮涂一次。