[发明专利]触控面板和显示装置有效

专利信息
申请号: 201510341052.X 申请日: 2015-06-18
公开(公告)号: CN104978066B 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 张金方;朱修剑;韩珍珍 申请(专利权)人: 昆山国显光电有限公司
主分类号: G06F3/041 分类号: G06F3/041
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 吴黎
地址: 215300 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 触控电极 触控面板 源矩阵 晶体管 电极隔离 方向设置 显示装置 基板 像素界定层 像素电极 交叉处
【说明书】:

发明公开了一种触控面板和显示装置,其中所述触控面板包括:基板;晶体管有源矩阵层,设置所述基板上;像素电极,形成在所述晶体管有源矩阵层上方且与所述晶体管有源矩阵层连接;沿第一方向设置的第一触控电极,设置在所述晶体管有源矩阵层上;沿第二方向设置的第二触控电极,与所述第一触控电极交叉,且设置在所述第一触控电极上方;以及电极隔离墙,设置在所述第一触控电极与所述第二触控电极之间,并且在所述第一触控电极与所述第二触控电极的交叉处,所述第二触控电极和所述电极隔离墙设置在所述触控面板的像素界定层上方。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,具体涉及一种触控面板和显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展,触控显示被广泛应用在各种电子产品上。按照触控层叠结构和显示面板的相对位置,触控显示面板封装可以分为in-cell(触控装置嵌入显示面板中)、on-cell(触控装置设置于显示面板上)等技术方案,而in-cell方案可以使得显示面板更加轻薄、透光率更高、功率更小,逐渐成为触控技术的发展主流。

现有的in-cell触控面板在横向和纵向两个触控电极均制造在显示面板的电致发光层上方,因此在横向和纵向触控电极的交叉处,由于两层触控电极的遮挡,会使得该处像素的亮度显著低于其他像素,从而使得显示面板亮度不均,影响显示面板的显示效果。为了避免此问题,现有的一种方法是在晶体管有源矩阵层上形成一层绝缘层,然后在绝缘层上形成导电层,再在该导电层上再形成一层绝缘层,该绝缘层上方的横向触控电极通过两个通孔与该导电层电连接,从而与纵向触控电极相交叉,这样在横向和纵向触控电极的交叉处仍然只有一层触控电极,解决了亮度不均的问题,但是这样形成的触控电极需要多道工艺步骤,工艺复杂。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是现有的in-cell触控技术工艺复杂的技术问题。

为此目的,本发明提出了一种触控面板,包括:基板;晶体管有源矩阵层,设置所述基板上;像素电极,形成在所述晶体管有源矩阵层上方且与所述晶体管有源矩阵层连接;沿第一方向设置的第一触控电极,设置在所述晶体管有源矩阵层上;沿第二方向设置的第二触控电极,与所述第一触控电极交叉,且设置在所述第一触控电极上方;以及电极隔离墙,设置在所述第一触控电极与所述第二触控电极之间,并且在所述第一触控电极与所述第二触控电极的交叉处,所述第二触控电极和所述电极隔离墙设置在所述触控面板的像素界定层上方。

优选地,所述第一触控电极包括位于所述交叉处的第一触控电极连接部和位于所述交叉处以外的第一触控电极主体部。

优选地,所述第一触控电极连接部与所述像素电极同步形成;和/或所述第一触控电极主体部与所述第二触控电极同步形成。

优选地,所述第一触控电极主体部还作为所述触控面板有机电致发光层的阴极或阳极。

优选地,所述像素电极还作为所述触控面板有机电致发光层的阳极或阴极。

优选地,所述第一触控电极主体部为菱形,并且所述第二触控电极包括位于所述交叉处的第二触控电极连接部和位于所述交叉处以外的第二触控电极主体部,所述第二触控电极主体部为菱形。

优选地,所述电极隔离墙靠近所述第一触控电极侧的截面积小于靠近所述第二触控电极侧的截面积。

优选地,所述电极隔离墙由负性光刻胶形成。

优选地,所述触控面板还包括:导电层,位于所述电极隔离墙与所述第二触控电极之间。

本发明还提供了一种显示装置,其包括上述触控面板。

本发明提供的触控面板和显示装置,通过将第二触控电极和电极隔离墙设置在像素界定层上方,制造工艺简单,且不会对触控面板的显示效果造成任何影响。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于昆山国显光电有限公司,未经昆山国显光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510341052.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top