[发明专利]玻璃抛光剂在审

专利信息
申请号: 201510341595.1 申请日: 2015-06-18
公开(公告)号: CN105038608A 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 程学勇 申请(专利权)人: 上海飞尔实业有限公司
主分类号: C09G1/02 分类号: C09G1/02
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司 31253 代理人: 冯子玲
地址: 201100 上海市闵*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 玻璃 抛光
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种玻璃抛光剂,属于化工领域。

背景技术

抛光剂是提高玻璃表面平整度的常用试剂。其基本原理是通过细小抛光颗粒的反复刮擦,使得玻璃表面的粗糙度下降,从而达到平整光滑的视觉效果。现有的抛光剂多使用微小的研磨颗粒,加上各种悬浮剂进行配合使用从而进行抛光作业。

然而,既然抛光剂是以刮擦的方式对物质表面进行平整,其所必然带来的问题就是随着被抛光物体的表面平整度的升高,它被抛光剂中的研磨颗粒刮出划痕的机率也在上升。

另外,由于现有的抛光机均采用圆周旋转的运动方式,由于离心力的作用,使得抛光剂中的研磨颗粒倾向于位移到抛光机磨盘的边缘,这样会带来两个问题,一是处于磨盘中央位置处的抛光效果下降,二是处于磨盘边缘处的物体表面更易被密集的研磨颗粒刮伤。

发明内容

本发明的目的在于提供一种玻璃抛光剂,以降低被抛光物体表面被二次刮伤的可能。

本发明采用了如下技术方案。

本发明提供一种玻璃抛光剂,其特征在于,以重量份计,包括如下组分:水,60-80份;异丙醇,2-6份;硅微粉,10-20份;Fe3O4粉末,粒径范围0.3-1.2微米,8-15份;起泡剂1-3份;炭黑0.01-0.03份;短碳纤维,长度范围0.2毫米-1.5毫米,1-3份。

另外,本发明的玻璃抛光剂,还可以具有这样的特征,还包括:正硅酸四乙酯,3-10份。

另外,本发明的玻璃抛光剂,还可以具有这样的特征,还包括:防腐剂0.1-0.2份。

另外,本发明的玻璃抛光剂,还可以具有这样的特征,还包括:ATC9503缓蚀剂1份。

发明的有益效果

根据本发明的玻璃抛光剂,由于采用了Fe3O4做为研磨剂,因此当使用带有磁性的Fe3O4自身具有磁性,在研磨过程中不会由于离心作用而发生离散,并且在外力的推动下会在表面分布的更加均匀。

另外,由于具有短碳纤维,增加研磨料的分散度,同时增加研磨颗粒扫过的面积,促使研磨颗粒发生旋转,提高研磨效果,防止由于单颗粒固定卡死而形成的大划痕。

另外,由于加入了正硅酸四乙酯,当研磨进行一段时间后,正硅酸四乙酯逐渐分解形成SiO2,SiO2以Fe3O4和碳纤维表面的微结构为结晶核,形成大量微晶,从而形成更为精细化的研磨颗粒,以有效预防将前期研磨平整的表面带来更大划痕的可能,同时由于微晶更细小,因此能够进一步提高表面光洁度,达到一举两得的功效。

本发明还意外的发现,当加入少量炭黑之后,玻璃表面出现小划痕的概率明显下降。

具体实施方式

以下通过具体实施方式来进一步说明本发明的技术方案。

实施例1:

本实施例的玻璃抛光剂的配方如表1所示。

表1.实施例1的玻璃抛光剂的配方

随着研磨的进行,正硅酸四乙酯逐渐分解形成SiO2,SiO2以Fe3O4和碳纤维表面的微结构为结晶核,形成大量微晶,从而形成更为精细化的研磨颗粒,以有效预防将前期研磨平整的表面带来更大划痕的可能,同时由于微晶更细小,因此能够进一步提高表面光洁度,达到一举两得的功效。

Fe3O4自身具有磁性,在研磨过程中不会由于离心作用而发生离散,并且在外力的推动下会在表面分布的更加均匀。

短碳纤维,同样,增加研磨料的分散度,同时增加研磨颗粒扫过的面积,促使研磨颗粒发生旋转,提高研磨效果,防止由于单颗粒固定卡死而形成的大划痕。

防腐剂可使用山梨酸钾等,起泡剂可以使用油酸三乙醇胺等适用于抛光过程中的起泡剂。

经过实验,与现有的玻璃抛光剂相比,表面光滑度提升50%以上。实施例2:

本实施例的玻璃抛光剂的配方如表2所示。

表2.实施例2的玻璃抛光剂的配方

实施例3:

本实施例的玻璃抛光剂的配方如表3所示。

表3.实施例3的玻璃抛光剂的配方

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