[发明专利]镁合金表面上锆基薄膜的修复方法

权利要求书

1.一种镁合金表面上锆基薄膜的修复方法，采用电沉积和化学沉积使得含锆离子的成膜溶液在所述锆基薄膜的失效部位进行沉积，

将具有储液能力的包覆层包覆在导电载体上；以及采用吸收有所述成膜溶液的所述导电载体均匀擦涂所述锆基薄膜的失效部位，以在所述失效部位进行电沉积和化学沉积，形成致密的锆基转化膜；

其中，所述成膜液为由2g/L的氟锆酸钾、3g/L的单宁酸、0.1g/L的溴化钾及5ml/L的过氧化氢组成的水溶液。

2.根据权利要求1所述的修复方法，其特征在于，所述电沉积时的电压为5～15V。

3.根据权利要求2所述的修复方法，其特征在于，所述电沉积时的电压为10V。

4.根据权利要求3所述的修复方法，其特征在于，

采用具有包覆层的所述导电载体以0.5m/分钟的速率反复擦涂所述失效部位，擦涂8分钟，且每隔30s将所述导电载体放入成膜液中进行浸润，以便为修复锆基薄膜提供充足的成膜液。

5.根据权利要求1所述的修复方法，其特征在于，

在对所述锆基薄膜的失效部位进行沉积之前，还包括对镁合金表面上锆基转化膜的失效部位分别进行表面清理、酸洗和活化处理的步骤。

6.根据权利要求5所述的修复方法，其特征在于，

采用含清洗液的不导电载体以0.5m/分钟的速率反复擦涂所述失效部位5分钟，且每隔30秒将所述不导电载体放入所述清洗液中进行浸润；

采用含酸洗液的不导电载体以0.5m/分钟的速率反复擦涂所述失效部位10秒；

采用含活化液的不导电载体以0.5m/分钟的速率反复擦涂所述失效部位2分钟，每隔30秒将所述不导电载体放入所述活化液中进行浸润。

7.根据权利要求6所述的修复方法，其特征在于，

所述清洗液为由12g/L的Na₂CO₃、20g/L的Na₃PO₃和1g/L的OP乳化剂组成的水溶液；

所述酸洗液为由0.5g/L的硫脲和30ml/L的硝酸形成的水溶液；

所述活化液为由65g/L的焦磷酸钾、15g/L的Na₂CO₃和5g/L的NaF形成的水溶液。

8.根据权利要求4-7中任一项所述的修复方法，其特征在于，所述包覆层为脱脂棉；所述导电载体为电极。

9.根据权利要求5所述的修复方法，其特征在于，采用具有包覆层的不导电载体分别吸收清洗液、酸洗液和活化液后依次对失效部位进行涂擦。

10.根据权利要求7所述的修复方法，其特征在于，所述清洗液的温度为65℃。

11.根据权利要求7所述的修复方法，其特征在于，所述酸洗液的温度为室温。

12.根据权利要求7所述的修复方法，其特征在于，所述活化液的温度为75℃。