[发明专利]一种用于测量光器件频率响应的装置和方法

权利要求书

1.一种用于测量光器件频率响应的装置，其特征在于，包括：

激光光源，用于产生连续式激光载波；

检测光路，用于对所述激光载波进行调制生成第一光频梳，使第一光频梳通过待测光器件得到检测光梳，以将待测光器件的幅频响应和相频响应记录在检测光梳的梳齿上，使检测光梳变频为基带检测信号；

基准光路，用于对所述激光载波进行调制生成第二光频梳，使第二光频梳变频为基带基准信号；

采样处理模块，用于根据基带检测信号和基带基准信号进行采样，并计算待测光器件的幅频响应和相频响应。

2.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述检测光路包括：

第一调制模块，用于对所述激光载波进行调制生成具有第一频率间隔的第一光频梳，并输入待测光器件；

第一变频模块，用于对待测光器件输出的检测光梳和第二光频梳进行拍频处理获得基带检测信号。

3.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述基准光路包括：

第二调制模块，用于将所述激光载波进行移频，并调制生成具有第二频率间隔的第二光频梳，且第一频率间隔和第二频率间隔的数值不同；

第二变频模块，用于对第一光频梳和第二光频梳进行拍频处理获得基带基准信号。

4.如权利要求2所述的装置，其特征在于，所述第一调制模块包括：

第一伪随机序列发生器，用于产生第一伪随机序列，其中第一伪随机序列的重复周期与第一频率间隔为倒数关系；

第一调制器，用于根据第一伪随机序列将所述激光载波进行调制，生成第一光频梳。

5.如权利要求3所述的装置，其特征在于，所述第二调制模块包括：

移频器，用于对激光载波进行移频处理；

第二伪随机序列发生器，用于产生第二伪随机序列，其中第二伪随机序列的重复周期与第二频率间隔为倒数关系；

第二调制器，用于根据第二伪随机序列对移频后的激光载波进行调制，生成第二光频梳，且第一光频梳和第二光频梳的梳齿频率不同。

6.如权利要求1所述的装置，其特征在于，所述采样处理模块包括：

双通道采样示波器，其包括检测信号通道和基准信号通道，其中，检测信号通道对基带检测信号进行采样和模数转换得到检测数字信号，基准信号通道对基带基准信号进行采样和模数转换得到基准数字信号；

数字处理器，其对检测数字信号和基准数字信号进行处理，得到待测光器件的幅频响应和相频响应。

7.一种用于测量光器件频率响应的方法，其特征在于，包括：

产生连续式激光载波；

对所述激光载波进行调制生成第一光频梳，使第一光频梳通过待测光器件得到检测光梳，以将待测光器件的幅频响应和相频响应记录在检测光梳的梳齿上；

对所述激光载波进行调制生成第二光频梳；

将检测光梳变频为基带检测信号；

使第二光频梳变频为基带基准信号；

根据基带检测信号和基带基准信号进行采样，并计算待测光器件的幅频响应和相频响应。

8.如权利要求7所述的方法，其特征在于，在对所述激光载波进行调制生成第一光频梳的步骤中包括：

对所述激光载波进行调制生成具有第一频率间隔的第一光频梳；

在将检测光梳变频为基带检测信号的步骤中包括：

对待测光器件输出的检测光梳和第二光频梳进行拍频处理获得基带检测信号。

9.如权利要求7所述的方法，其特征在于，在对所述激光载波进行调制生成第二光频梳的步骤中包括：

将所述激光载波进行移频，并调制生成具有第二频率间隔的第二光频梳，且第一频率间隔和第二频率间隔的数值不同；

在使第二光频梳变频为基带基准信号的步骤中包括：

对第一光频梳和第二光频梳进行拍频处理获得基带基准信号。