[发明专利]一种高功率磁控溅射靶在审

专利信息
申请号: 201510347495.X 申请日: 2015-06-19
公开(公告)号: CN104894523A 公开(公告)日: 2015-09-09
发明(设计)人: 徐子明;闫宗楷;向勇 申请(专利权)人: 宁波英飞迈材料科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 代理人: 刘凤钦;王莹
地址: 315040 浙江*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 功率 磁控溅射
【权利要求书】:

1.一种高功率磁控溅射靶,包括靶材(1)、设置在靶材(1)背部的靶背板(2)、极靴(6)、设置于靶背板(2)和极靴(6)之间的且间隔设置的多个永磁体(3),多个所述永磁体(3)的N、S极相间分布,其特征在于:还包括软磁体(5)和隔离板(4);

所述隔离板(4)为非导磁材料制成的隔离板(4),所述隔离板(4)设置于永磁体(3)的上方;

每个永磁体(3)的上方对应设置有一软磁体(5),所述软磁体(5)设置于所述隔离板(4)和靶背板(2)之间,相邻两个软磁体(5)间的空隙及最外侧的两个软磁体外侧的间隙即形成供冷却水流通的冷却水通道(7)。

2.根据权利要求1所述的高功率磁控溅射靶,其特征在于:所述软磁体(5)为外表面做过镀镍或镀铬处理的软磁体。

3.根据权利要求1或2所述的高功率磁控溅射靶,其特征在于:所述软磁体(5)为10号碳素钢、纯铁或铁硅合金制成的软磁体。

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