[发明专利]一种芯区优化的多模光纤有效
申请号: | 201510348556.4 | 申请日: | 2015-06-23 |
公开(公告)号: | CN104865636B | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 张心贲;徐进;李德武;雷高清;郑伟 | 申请(专利权)人: | 长飞光纤光缆股份有限公司 |
主分类号: | G02B6/028 | 分类号: | G02B6/028;G02B6/036 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙)42222 | 代理人: | 严彦 |
地址: | 430073 湖北省*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 优化 光纤 | ||
技术领域
本发明涉及光通信技术领域中的一种多模光纤,尤其涉及一种传输系统中要求宽带宽的多模光纤。
背景技术
多模光纤(MMF)在大数据量的短距离通信中如数据中心和中心机房有着广泛的应用。目前,多模光纤纤芯的折射率剖面一般采用纤芯的“α”型的折射率分布来减小模式间的延时差,提高带宽。这种分布通常可以用径向距离的函数表示:
其中参数α一般在1.9~2.2之间,r0为光纤纤芯区域到光纤中心径向距离的最大值,r为光纤中某点到光纤中心的径向距离,nco为纤芯折射率最大值,一般在光纤的中心,Δ为相对折射率。
其中ncl为纤芯最小折射率,通常出现在纤芯和包层交界点处。
针对上述剖面的优化一般局限在参数α上,如文献J.W.Fleming,“Dispersion in GeO2-SiO2glasses,”Applied Optics,Vol.23,No.24,15 Dec 1984中,根据GeO2-SiO2混合体的色散表达式推导出α的优化值在850nm处约为2.04。但至少这一修正没有考虑包层对外围光模式的影响。
专利US 2010/0154478及相关系列专利,从制造的角度提出纤芯剖面的靠近中心部分遵循“α”分布,但远离纤芯的部分有微小的折射率偏离,但其提出的改进劣化了差模延时(DMD)和有效模式带宽(EMB)。
专利US 8391661B2及相关系列专利,提出了一种α随径向距离变化的折射率剖面,典型的是将折射率分为两段,但其针对的是较大Δ(如1.9%)MMF,对常规Δ(如0.10%)MMF的改进十分有限。
此外,抗弯多模光纤的概念需要光纤具有优良的弯曲不敏感性,目前广泛地借用抗弯单模光纤中采用的靠近纤芯的折射率凹陷(Trench)来实现。包层中凹陷的两个负面影响是:1)降低泄漏模的损耗,从而影响纤芯大小和数值孔径的测量;2)对导模形成微扰,影响带宽。较浅的凹陷折射率深度可以减少泄漏模的数量,离纤芯较近可以削弱泄漏模在在纤芯和凹陷之间的存在,这都可以改善凹陷对纤芯大小和数值孔径测量的影响。专利CN 102736169A及相关专利中对凹陷的位置和折射率深度进行了深入的研究。而凹陷较浅时会降低光纤的弯曲性能,因此需要将凹陷设计的离纤芯比较近。目前技术人员对抗弯多模的凹陷有了大量研究,而对影响光纤带宽的源头——纤芯的折射率剖面,没有做更细致的研究。
发明内容
本发明的目的是针对上述技术问题,提供了一种对多模光纤常规“α”折射率分布的修正方法以增加其带宽。
本发明的技术方案提供一种芯区优化的多模光纤,包括纤芯和包层,纤芯被包层所围绕,设光纤纤芯半径为r0,在光纤纤芯半径r0的范围内,纤芯中某点的折射率剖面n(r)用关于该点到光纤纤芯中心的距离r的函数表示如下,
其中,α为预设的参数,Δ为相对折射率,nco为所述纤芯最大折射率,ncl为所述纤芯最小折射率;f(.)为关于距离r的修正函数,所述修正函数f(.)包括一个或多个关于距离r的幂函数。
而且,所述修正函数f(.)包括两个关于距离r的幂函数,相应折射率剖面n(r)表示如下,
其中,[k1,m1]和[k2,m2]分别为两个幂函数的系数,0≤m1/α<3,3≤m2/α<6,-2<k1/(2Δ)m1/α<10,-100<k2/(2Δ)m2/α<50。
而且,系数k1、k2满足以下条件,
[160(α-τ)+0.4]Δ2<k1<[220(α-τ)+0.4]Δ2
-60Δk1-40Δ3<k2<-40Δk1+120Δ3
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