[发明专利]磁控溅射镀膜设备有效
| 申请号： | 201510350754.4 | 申请日： | 2015-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN104878361B | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 张心凤;郑杰;尹辉 | 申请（专利权）人： | 安徽纯源镀膜科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 230088 安徽省合肥市*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 磁控溅射 镀膜 设备 | ||
1.一种磁控溅射镀膜设备，包括水平设置在底座(10)上的阴极靶材(11)，所述阴极靶材(11)为长方形板状结构，阴极靶材(11)上方设有基片(12)，阴极靶材(11)下方布设有磁铁(15)，所述磁铁(15)在阴极靶材(11)上表面形成拱形磁场，设备还包括用于向阴极靶材(11)上表面吹送惰性气体的供气单元，其特征在于：所述供气单元包括沿阴极靶材长度方向布设的供气管路，所述供气管路(13)上沿管长方向间隔开设有多个出气孔(131)，且出气孔(131)在供气管路(13)中段的布设密度小于两端的布设密度；所述磁铁(15)为多个沿阴极靶材(11)长度方向间隔布置，且磁铁在阴极靶材(11)两端的布设密度大于中段的布设密度。
2.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述阴极靶材周边设有围板(14)，所述围板(14)上端设有向内弯折的翻边(141)，所述翻边(141)延伸至阴极靶材(11)表面的边缘区域上方，所述翻边(141)内侧设有阳极挡板，且阳极挡板与阴极靶材(11)上表面之间存在间隙，所述供气管路(13)位于阴极靶材(11)、围板(14)以及底座(10)三者围合而成的空腔内，惰性气体从阳极挡板与阴极靶材(11)之间的间隙扩散至阴极靶材(11)表面。
3.根据权利要求1所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述阴极靶材(11)与底座(10)之间设有绝缘板(16)。
4.根据权利要求2所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：所述供气管路(13)为两条且分别对应阴极靶材(11)的两条长边布置。
5.根据权利要求4所述的磁控溅射镀膜设备，其特征在于：同一供气管路上的各出气孔(131)朝同一方向开设即朝向围板(14)内壁开设。
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