[发明专利]一种阳光控制低辐射镀膜玻璃及其在线制备方法

权利要求书

1.一种阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于包括玻璃基片，含氟、锑的氧化锡底膜层，含氟的氧化锡表膜层，在玻璃带基片表面是含氟、锑的氧化锡底膜层，含氟的氧化锡表膜层在所述氧化锡底膜层上面。

2.根据权利要求1所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于上述底膜层的厚度为220-250nm。

3.根据权利要求1所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于上述表膜层的厚度为280-300nm。

4.根据权利要求1所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于上述底膜层的厚度为240nm。

5.根据权利要求1所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃，其特征在于上述表膜层的厚度为290nm。

6.一种阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于以下步骤：

第一步在玻璃成型锡槽窄段内部玻璃带基片上方设置两台镀膜器，按照玻璃带基片运行方向，在其前端的用于底膜层镀膜器，在其后端的用于表膜层镀膜器，所述两镀膜器下表面标高一致且与玻璃带基片平行；

第二步将三氟乙酸0-5％、三氯化锑5.2-10％溶液加入底膜层镀膜液容器混合，汽化温度是170℃，汽化后用空气作载体与水蒸气混合，通入底膜层镀膜器，上述混合液通过底膜层镀膜器下方的通气道喷在玻璃带基片表面，在玻璃带基片表面沉积含氟、锑的氧化锡底膜层；

第三步在第二步沉积含氟、锑的氧化锡底膜层的同时，将三氟乙酸5％溶液加入表膜层镀膜液容器，汽化温度是170℃，汽化后用空气作载体与水蒸气混合，通入表膜层镀膜器，上述混合液通过表膜层镀膜器下方的通气道喷在已含氟、锑的氧化锡底膜层玻璃带基片表面上，沉积含氟的氧化锡表膜层，送出玻璃锡槽得到低辐射镀膜玻璃。

7.根据权利要求6所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于镀膜器设置在锡槽内部温度段是625℃-640℃。

8.根据权利要求6所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于上述第二步制底膜层的是三氟乙酸3％溶液和三氯化锑8％溶液。

9.根据权利要求6所述的阳光控制低辐射镀膜玻璃在线制备方法，其特征在于上述第三步制表膜层是三氟乙酸6％溶液。