[发明专利]一种含环硼氮烷结构的SiBCN陶瓷前驱体的制备方法在审

专利信息
申请号: 201510355139.2 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN104974352A 公开(公告)日: 2015-10-14
发明(设计)人: 刘伟;曹腊梅;益小苏;谭僖;李麒 申请(专利权)人: 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院
主分类号: C08G79/08 分类号: C08G79/08;C04B35/58;C07F5/02
代理公司: 中国航空专利中心 11008 代理人: 李建英
地址: 100095*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 含环硼氮烷 结构 sibcn 陶瓷 前驱 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种含环硼氮烷结构的SiBCN陶瓷前驱体的制备方法,其特征在于包括以下步骤:

1)在无水无氧环境中,将镁加入反应瓶中,加入乙醚或四氢呋喃使其浸没镁,而后加入1~2粒碘,滴入氯甲基硅烷引发格氏反应,制成格氏试剂;

2)在无水无氧环境中,将步骤1)所得的格氏试剂与溶于无水溶剂的含氯环硼氮烷反应,除去无水溶剂及副产物,得到含环硼氮烷结构的小分子产物,格氏试剂与含氯环硼氮烷的投料摩尔比为1-20:1-20,所述的溶剂的用量为所述氯甲基硅烷与所述含氯环硼氮烷总质量的1~10倍;格氏试剂与溶于无水溶剂的含氯环硼氮烷的反应温度为-80~80℃,反应时间为1~24小时;

3)在无水无氧环境中,将步骤2)中含环硼氮烷结构的小分子产物中的含Si-Cl基团的小分子产物溶于无水溶剂,然后与氨气或有机胺反应,除去溶剂及副产物,得到含环硼氮烷结构的聚合物产物。所述的溶剂的用量为所述含Si-Cl基团的小分子产物质量的1~10倍;所述的氨气或有机胺的用量为所述小分子的Si-Cl基团摩尔数的1~10倍,所述的含Si-Cl基团的小分子产物与氨气或有机胺反应温度为-80~80℃,反应时间为1~24小时,得到含环硼氮烷结构的聚合物产物。

2.根据权利要求1所述的一种含环硼氮烷结构的SiBCN陶瓷前驱体的制备方法,其特征在于,所述的镁为镁粉、镁屑、镁条中的至少一种。

3.根据权利要求1所述的一种含环硼氮烷结构的SiBCN陶瓷前驱体的制备方法,其特征在于,所述的氯甲基硅烷为氯甲基三氯硅烷、氯甲基甲基二氯硅烷、氯甲基二甲基氯硅烷、氯甲基甲基氯硅烷、氯甲基甲基硅烷或氯甲基三甲基硅烷中的一种或几种的混合。

4.根据权利要求1所述的一种含环硼氮烷结构的SiBCN陶瓷前驱体的制备方法,其特征在于,所述的含氯环硼氮烷选自三氯环硼氮烷、二烷基氯环硼氮烷或烷基二氯环硼氮烷,所述的烷基为氢、碳原子总数为1-6的烷基、碳原子总数为2-4的链烯基、碳原子总数为6-10的芳基中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的一种含环硼氮烷结构的SiBCN陶瓷前驱体的制备方法,其特征在于,所述的溶剂选自碳原子总数为6-10的烷烃、碳原子总数为6-8的芳烃、碳原子总数为4-8的醚和呋喃的至少一种,具体包括己烷、甲苯、二甲苯、乙醚、四氢呋喃中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的一种含环硼氮烷结构的SiBCN陶瓷前驱体的制备方法,其特征在于,中所述氯甲基硅烷与步骤2)中格氏试剂与含氯环硼氮烷的投料摩尔比为优选1-5:1-5;无水溶剂的用量为所述氯甲基硅烷与所述含氯环硼氮烷总质量优选2~4倍。

7.根据权利要求1所述的一种含环硼氮烷结构的SiBCN陶瓷前驱体的制备方法,其特征在于,步骤3)中,所述的有机胺选自甲胺、乙胺、乙二胺、丙胺、苯胺和对苯二胺中的至少一种;所述的氨气或有机胺的用量为所述小分子的Si-Cl基团摩尔数优选2~4倍。

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