[发明专利]保护膜结构及撕膜方法在审
申请号: | 201510357953.8 | 申请日: | 2015-06-25 |
公开(公告)号: | CN105173185A | 公开(公告)日: | 2015-12-23 |
发明(设计)人: | 任陈铭;蔡正丰 | 申请(专利权)人: | 业成光电(深圳)有限公司;英特盛科技股份有限公司 |
主分类号: | B65B33/02 | 分类号: | B65B33/02;B65B61/22;B65B69/00 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 吴平 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙华*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 保护 膜结构 方法 | ||
1.一种保护膜结构,用以保护一面板模块,其特征在于,该保护膜结构包含:
一保护膜本体,贴附至该面板模块;
一黏合件,设置于该保护膜本体;以及
一拉拔件,位于该保护膜本体上方,并具有相连的一黏合部以及一翘曲部,其中该黏合件黏合于该保护膜本体与该黏合部之间,并且该翘曲部远离该保护膜本体翘起。
2.如权利要求1所述的保护膜结构,其特征在于,该翘曲部具有至少一挤压线,并且该挤压线位于该翘曲部背对该保护膜本体的一表面。
3.如权利要求2所述的保护膜结构,其特征在于,该翘曲部具有多个该挤压线,并且这些挤压线朝向远离该黏合部的一方向排列。
4.如权利要求3所述的保护膜结构,其特征在于,这些挤压线相互平行。
5.如权利要求3所述的保护膜结构,其特征在于,这些挤压线朝向远离该黏合部的该方向渐密排列。
6.如权利要求3所述的保护膜结构,其特征在于,这些挤压线朝向远离该黏合部的该方向渐疏排列。
7.如权利要求2所述的保护膜结构,其特征在于,该翘曲部具有至少另一挤压线,并且该另一挤压线位于该翘曲部面对该保护膜本体的一表面。
8.如权利要求1所述的保护膜结构,其特征在于,该黏合件为一双面胶。
9.一种撕膜方法,用以将一保护膜结构由一面板模块撕除,该保护膜结构包含一保护膜本体、一黏合件以及一拉拔件,该保护膜本体贴附至该面板模块,该拉拔件具有相连的一第一部分以及一第二部分,该黏合件黏合于该保护膜本体与该第一部分之间,该撕膜方法包含以下步骤:
形成至少一挤压线于该第二部分背对该保护膜本体的一表面,使得该第二部分远离该保护膜本体翘起;以及
朝向远离该保护膜本体的一方向拉拔该第二部分,进而将该保护膜本体由该面板模块撕除。
10.如权利要求9所述的撕膜方法,其特征在于,形成该挤压线的步骤包含:朝向远离该黏合部的一方向形成多个该挤压线于该第二部分。
11.如权利要求10所述的撕膜方法,其特征在于,这些挤压线相互平行。
12.如权利要求10所述的撕膜方法,其特征在于,这些挤压线朝向远离该黏合部的该方向渐密排列。
13.如权利要求10所述的撕膜方法,其特征在于,这些挤压线朝向远离该黏合部的该方向渐疏排列。
14.如权利要求9所述的撕膜方法,其特征在于,形成该挤压线的步骤包含:以一钝器刻划该第二部分以形成该挤压线。
15.如权利要求14所述的撕膜方法,其特征在于,该钝器为一钝刀。
16.如权利要求9所述的撕膜方法,其特征在于,还包含:形成至少另一挤压线于该第二部分面对该保护膜本体的一表面。
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