[发明专利]一种用于3D微结构制造的流体光刻方法

权利要求书

1.一种用于3D微结构制造的流体光刻方法，其特征是：该方法步骤如下：

首先，在流场作用下，研究感光介质与光的相互作用机理，做到在微流体管道内对流动光刻胶进行均匀、稳定的曝光，避免出现结构残缺和畸变；

其次，采用由下而上的曝光方式，这样做有利于保持光刻微粒始终紧贴微流管道底部，从而有利于提高曝光过程的稳定性，避免出现曝光微粒在微流管道内上下浮动的情况；

第三，采用PDMS氧化抑制剂来有效抑制在曝光过程中出现的光刻胶与微流管道内边之间的粘附现象，保证光刻过程能够顺利进行；

第四，利用电脑直接生成曝光图案，并通过数字微镜阵将其投影到焦面位置，中间过程不需要掩模板，这样以来便可以根据自己需要任意设计曝光图案，提高了加工的灵活性；

最后，利用电脑来不断控制光刻机的快门打开与闭合，从而达到连续光刻的效果，而感光固化的光刻微粒将随着管道内的流动液体排除微流体管道，整个曝光过程将实现流水线模式的加工，该方法实现了动态曝光加工方式，能够对流场作用下的光刻胶进行曝光。

2.根据权利要求1所述的用于3D微结构制造的流体光刻方法，其特征是：实现了流水线模式的光刻加工，生产效率高，能够在一分钟内生产数十上百个光刻微粒。

3.根据权利要求1所述的用于3D微结构制造的流体光刻方法，其特征是：加工精度高，能够在微流体管道内加工出精度达到1μm的光刻微粒。

4.根据权利要求1所述的用于3D微结构制造的流体光刻方法，其特征是：加工灵活多变，能够做到自主设计加工微粒结构。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的用于3D微结构制造的流体光刻方法，其特征是：能够实现大批量、高精度的微粒加工，在MEMS器件生产以及生物化学检测领域具有广泛应用前景。