[发明专利]EUV光源、曝光装置和一体式旋转结构制作方法

权利要求书

1.一种EUV光源，其特征在于，包括：

液滴阵列，所述液滴阵列包括呈环形排布的若干喷嘴，若干喷嘴适于依次向下方的环形辐射位置喷吐液滴；

激光源，适于产生激光束，使激光束从液滴阵列上方入射并旋转扫描，依次轰击到达环形辐射位置的液滴，液滴受到激光轰击时形成等离子体，等离子体辐射极紫外光；

一体式旋转结构，位于液滴阵列和激光源之间，所述一体式旋转结构包括聚光镜、与聚光镜表面的一体连接的电机驱动轴，所述电机驱动轴和聚光镜是通过一个整体的加工材料加工形成，所述聚光镜包括内凹的第一表面以及相对的第二表面，第一表面与液滴阵列相对，第二表面与电机驱动轴相连接，所述第一表面包括偏心且倾斜的椭球形反射面以及包围椭球形反射面的非反射面，所述一体式旋转结构适于旋转扫描，旋转扫描时偏心且倾斜的椭球形反射面收集辐射的极紫外光，并将收集的极紫外光汇聚于环形辐射位置下方的中心焦点。

2.如权利要求1所述的EUV光源，其特征在于，所述一体式旋转结构还包括与电机驱动轴一体连接的推力轴承。

3.如权利要求2所述的EUV光源，其特征在于，若干喷嘴呈环形排布为呈圆环形排布，圆环上的相邻喷嘴之间的间距相等，且喷嘴均向圆环的中心方向倾斜第一角度。

4.如权利要求3所述的EUV光源，其特征在于，所述环形辐射位置为呈圆环形的区域，所述环形辐射位置所在圆环平行于若干喷嘴所在圆环，且所述环形辐射位置所在圆环的半径小于若干喷嘴所在圆环的半径。

5.如权利要求4所述的EUV光源，其特征在于，所述环形辐射位置所在圆环的圆心位于若干喷嘴所在圆环的圆心的正下方。

6.如权利要求5所述的EUV光源，其特征在于，所述中心焦点位于所述环形辐射位置所在圆环的圆心与若干喷嘴所在圆环的圆心两者连线的延长线上。

7.如权利要求6所述的EUV光源，其特征在于，所述环形辐射位置所在圆环的圆心与所述若干喷嘴所在圆环的圆心的连线构成第一光轴。

8.如权利要求7所述的EUV光源，其特征在于，还包括无刷电机，所述无刷电机与所述电机驱动轴连接，所述无刷电机适于驱动所述一体式旋转结构以第一光轴为旋转轴旋转扫描，在激光束依次轰击到达环形辐射位置的液滴形成的辐射极紫外光时，椭球形反射面收集辐射的极紫外光，并将收集的辐射极紫外光反射后汇聚于中心焦点。

9.如权利要求8所述的EUV光源，其特征在于，所述椭球形反射面具有第二光轴，所述第二光轴穿过位于环形辐射位置的液滴的中心，所述椭球形反射面的倾斜角度等于第一光轴和第二光轴的夹角。

10.如权利要求9所述的EUV光源，其特征在于，所述聚光镜的椭球形反射面的中心处具有第一通孔，所述电机驱动轴内具有第二通孔，所述推力轴承内具有第三通孔，第一通孔、第二通孔和第三通孔相互贯穿，所述激光源包括激光器、聚焦透镜，所述激光器位于一体式旋转结构上方，适于产生激光束，所述聚焦透镜位于第一通孔中，并与聚光镜固定在一起，所述聚焦透镜适于将透过第二通孔的激光束聚焦到环形辐射位置，轰击位于环形辐射位置的液滴。

11.如权利要求10所述的EUV光源，其特征在于，所述激光源还包括固定的反射镜，所述固定的反射镜将激光器发射的激光束反射后透过第二通孔和第三通孔入射到聚焦透镜。

12.如权利要求10所述的EUV光源，其特征在于，还包括控制单元，所述控制单元输出同步的第一信号、第二信号，第一信号控制若干喷嘴依次喷吐液滴，第二信号控制所述无刷电机驱动所述一体式旋转结构中的椭球形反射面和聚焦透镜同步旋转。

13.如权利要求10所述的EUV光源，其特征在于，所述激光器为泵浦的脉冲输出激光器。

14.如权利要求1所述的EUV光源，其特征在于，呈环形排布依次包括第一喷嘴、第二喷嘴、第二喷嘴……第N(N≥3)喷嘴，在第一喷嘴喷吐第一液滴后，第二喷嘴喷滞后于第一喷嘴第一时间喷吐第二液滴，第三喷嘴滞后于第二喷嘴第一时间喷吐第三液滴……第N喷嘴滞后于第N-1喷嘴第一时间喷吐第N液滴。

15.如权利要求14所述的EUV光源，其特征在于，所述激光源产生激光束并使产生的激光束旋转扫描，依次轰击到达环形辐射位置的第一液滴、第二液滴、第三液滴……第N液滴。