[发明专利]蚀刻液组合物及使用其制造液晶显示器用阵列基板的方法

权利要求书

1.一种蚀刻液组合物，包括：金属层氧化剂、螯合剂和余量的水，

其中，所述螯合剂的官能团的摩尔量相比于所述金属层氧化剂的摩尔量是0.1至10，

所述螯合剂的官能团是在β位两侧都具有杂原子的单元，并且

所述金属层氧化剂的摩尔量和所述螯合剂的官能团的摩尔量从下面的等式1和等式2获得：

[等式1]

[等式2]

2.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，所述金属层氧化剂是选自由过氧化氢、过乙酸、金属氧化物、硝酸、过硫酸盐、氢卤酸和氢卤化物组成的组中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，基于所述组合物的总重量，包括：

1重量％至40重量％的所述金属层氧化剂；

0.1重量％至10重量％的所述螯合剂；和

余量的水。

4.根据权利要求3所述的蚀刻液组合物，进一步包括选自由以下物质组成的组中的一种或多种：

0.1重量％至5重量％的氟化物，

0.1重量％至10重量％的含氮原子的化合物，和

0.01重量％至10重量％的磷酸。

5.根据权利要求4所述的蚀刻液组合物，其中，所述金属层氧化剂包含过氧化氢。

6.根据权利要求5所述的蚀刻液组合物，其中，基于所述组合物的总重量，所述金属层氧化剂包括1重量％至25重量％的过氧化氢；并且

所述含氮原子的化合物是氨基酸。

7.根据权利要求1所述的蚀刻液组合物，其中，所述蚀刻液组合物用于蚀刻铜基金属层、钼基金属层、钛基金属层或它们的多层。

8.根据权利要求7所述的蚀刻液组合物，其中，所述多层是铜基金属层/钼基金属层、铜基金属层/钛基金属层或者铜基金属层/钼-钛基合金层。

9.一种制造用于液晶显示器的阵列基板的方法，包括：

a)在基板上形成栅极的步骤；

b)在包含所述栅极的基板上形成栅绝缘体的步骤；

c)在所述栅绝缘体上形成半导体层的步骤；

d)在所述半导体层上形成源/漏极的步骤；和

e)形成与漏极连接的像素电极的步骤；

其中，所述步骤a)、d)或e)包括形成金属层并且使用根据权利要求1至8中任一项所述的蚀刻液组合物蚀刻所述金属层来形成电极的步骤。