[发明专利]一种阳离子表面活性剂的应用有效

专利信息
申请号: 201510369823.6 申请日: 2015-06-29
公开(公告)号: CN105013390B 公开(公告)日: 2017-06-06
发明(设计)人: 张健;王姗姗;朱玥珺;薛新生;赵文森;靖波;翟磊 申请(专利权)人: 中国海洋石油总公司;中海油研究总院
主分类号: B01F17/18 分类号: B01F17/18;C09K8/588;C09K8/584
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司11245 代理人: 关畅,赵静
地址: 100010 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 阳离子 表面活性剂 应用
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种阳离子表面活性剂的应用,具体涉及阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵作为吸附牺牲剂在降低聚合物吸附量方面的新用途。

背景技术

聚合物驱提高采收率技术是油田增储上产和稳油控水的重要技术之一。在注聚合物过程中,由于聚合物与储层矿物的相互作用,聚合物会大量吸附在储层矿物表面,在聚合物必经之路的近井地带吸附现象尤为严重。疏水缔合聚合物因其分子链上带有少量阳离子疏水基,而与带负电的储层相互作用更为强烈,在近井地带的吸附量大于普通的聚合物。近井地带由于注入流体的长期冲刷,其含油饱和度极低,疏水缔合聚合物在该处的吸附一方面造成聚合物不必要的损失,不利于聚合物进入地层深部发挥驱油作用;另一方面,造成近井地带渗透率降低,注入井注入压力升高,影响实施方案的落实和注聚效果的实现。因此,降低聚合物在近井地带的吸附意义重大。

降低聚合物的吸附量可以通过加入一种与聚合物产生竞争吸附的试剂-吸附牺牲剂来实现,吸附牺牲剂需要与带负电的地层作用强烈,因此需要一种阳离子表面活性剂,且使用成本较聚合物低、无毒无味,同时牺牲剂以不同的方式加入也会影响聚合物的吸附量。因此,如何选取合适的牺牲剂和牺牲剂的加入方式对降低聚合物在近井地带的吸附量,实现油田增储上产和稳油控水至关重要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种阳离子表面活性剂的应用。

本发明所提供的阳离子表面活性剂为十六烷基三甲基溴化铵,其应用是在降低油田驱油用疏水缔合聚合物吸附量方面的应用。

上述应用中,所述疏水缔合聚合物具体可为聚丙烯酰胺(AP-P4)聚合物。

上述应用中,具体可采用如下方法降低油田驱油用聚合物的吸附量:向注入井中注入十六烷基三甲基溴化铵水溶液作为前置段塞,再注入疏水缔合聚合物进行聚合物驱,最后进行水驱。

其中,所述十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)水溶液的浓度为20-100mg/L,具体可为50mg/L。

所述十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)水溶液的注入速度为0.2-1.0mL/min,具体为0.3mL/min。

所述十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)水溶液的注入量为0.1-5PV,具体为3PV。

所述疏水缔合聚合物具体可为聚丙烯酰胺(AP-P4)聚合物。

所述疏水缔合聚合物是以疏水缔合聚合物水溶液的形式注入的,所述疏水缔合聚合物水溶液的浓度为1000-2000mg/L,具体为1750mg/L。

所述疏水缔合聚合物水溶液的注入速度为0.2-1.0mL/min,具体为0.3mL/min。

本发明所述的阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)的结构式如下式I所示:

本发明采用的阳离子表面活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)作为聚合物吸附牺牲剂,因其带有阳离子基团,能够与带负电的储层形成强烈的吸附作用;同时可以与疏水缔合聚合物的阳离子疏水基形成静电相斥从而减弱其与聚合物间的相互作用,最终达到降低聚合物吸附量的目的。

本发明通过加入阳离子表面活性剂作为吸附牺牲剂的方式降低聚合物的吸附量,节约了聚合物的成本;同时,亦可降低聚合物的注入压力,提高聚合物的注入性。所使用的牺牲剂与地层水及聚合物有良好的配伍性,可广泛应用于与油田聚合物相关的驱油过程中降低聚合物吸附量的问题。

附图说明

图1为实施例1中牺牲剂CTAB加入与否对聚合物在石英砂上的吸附量变化示意图。

图2为实施例2中CTAB前置段塞+聚合物驱+水驱对聚合物入口压力的影响。

图3为实施例2中CTAB前置段塞+聚合物驱+水驱对流出端聚合物浓度的影响。

图4为对比实施例1中不同类型牺牲剂对聚合物在石英砂上吸附量的影响。

图5为对比实施例2中CTAB前置段塞+水驱+聚合物驱+水驱对聚合物入口压力的影响。

图6为对比实施例2中CTAB前置段塞+水驱+聚合物驱+水驱对流出端聚合物浓度的影响。

图7为对比实施例2中CTAB与聚合物混合注入对聚合物入口压力的影响。

图8为对比实施例2中CTAB与聚合物混合注入对流出端聚合物浓度的影响。

具体实施方式

下面通过具体实施例对本发明的方法进行说明,但本发明并不局限于此,凡在本发明的精神和原则之内所做的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本发明的保护范围之内。

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