[发明专利]磁吸式按键及其键盘有效
申请号: | 201510378513.0 | 申请日: | 2013-10-24 |
公开(公告)号: | CN104952645A | 公开(公告)日: | 2015-09-30 |
发明(设计)人: | 颜志仲 | 申请(专利权)人: | 苏州达方电子有限公司;达方电子股份有限公司 |
主分类号: | H01H3/12 | 分类号: | H01H3/12;H01H13/705 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 215011 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 磁吸式 按键 及其 键盘 | ||
本申请是于2013年10月24日提交的申请号为201310505321.2的发明创造名称为《磁吸式按键及其键盘》的原申请的分案申请。
技术领域
本发明提供一种可改变高度的按键,尤指一种以磁吸力改变高度的磁吸式按键及其键盘。
背景技术
随着科技的进步,可携式电子装置逐渐趋向超薄型的外观设计。薄型电子装置的结构空间有限,故其输入介面(例如键盘)也须有相应的薄型设计。然而薄型键盘的操作行程较短,使用薄型键盘时难以感受到足够产生操作手感的力回馈,故一种可改变整体结构高度的键盘便应运而生,各按键的纵向高度随着键盘在使用模式或收纳模式而切换改变。传统的可改变高度键盘是利用重力驱动各按键的键帽在收纳模式下降到最低位置,但以重力带动键帽下沉的稳定性不佳,长时间多次使用的键帽无法正确下沉到预设最低位置。因此,如何设计出一种可改变结构高度,并具有较佳操作可靠度的下沉式按键及其键盘,便为相关电脑产业的发展目标之一。
发明内容
为解决上述问题,本发明提供一种以磁吸力改变高度的磁吸式按键及其键盘,以达到使该按键及其键盘稳定地上下移动的目的。
为达到上述目的,本发明提出一种磁吸式按键,包含有底板、键帽、曲型支撑件、托板、吸附元件以及第二吸附元件;键帽活动地设置在该底板上;曲型支撑件具有第一端与第二端,该曲型支撑件设置在该键帽与该底板之间;托板以可相对滑动方式设置在该底板下方;吸附元件设置在该托板上,该吸附元件于该托板位于第一位置时相对该第一端产生吸附力,以使该第二端给该键帽施加向上支撑力,该吸附元件另于该托板位于第二位置时移除对该第一端的该吸附力;第二吸附元件,该第二吸附元件设置于该托板上,于该托板位于该第二位置时,该第二吸附元件接近该第二端,该第二吸附元件用于加快该曲型支撑件的翻转。
作为可选的技术方案,该磁吸式按键还包含有薄膜电路板,该薄膜电路板具有开关,该曲型支撑件另可具有突出部,该突出部设置在该第二端,该突出部用来致动该薄膜电路板的该开关。
作为可选的技术方案,该曲型支撑件另具有转折端,该转折端位于该第一端和该第二端之间,该托板另具有支撑部,该底板具有导引槽,该转折端滑动地设置在该导引槽中,该支撑部在该托板位于该第一位置时支撑该转折端,且该支撑部在该托板位于该第二位置时与该转折端分离,该转折端与该支撑部分离后沿着该导引槽向下移动。
作为可选的技术方案,该托板另具有斜导部,该斜导部设置在该支撑部上,该斜导部用来推动该曲型支撑件,使该转折端沿着该导引槽向上移动。
作为可选的技术方案,该斜导部为斜面结构或者弧面结构。
作为可选的技术方案,该导引槽为竖直型长槽。
作为可选的技术方案,该磁吸式按键另包含有:
至少一升降支撑机构,该升降支撑机构的两端分别连接该底板与该键帽。
作为可选的技术方案,该曲型支撑件由导磁性材质组成,该吸附元件为永久磁铁或电磁铁。
作为可选的技术方案,该托板具有限位件,该限位件用于将该吸附元件固定在该托板的上表面。
本发明又提出一种键盘,复数个磁吸式按键,该复数个按键设置在该底板上,且该复数个磁吸式按键的至少其中之一为如上所述的磁吸式按键。
相较于现有技术,本发明的磁吸式按键及其键盘利用可移动托板改变吸附元件相对曲型支撑件的位置。吸附元件可为永久磁铁或电磁铁,曲型支撑件可由导磁性材质组成。吸附元件接近曲型支撑件时,可产生磁吸力驱动曲型支撑件向上推顶键帽;吸附元件远离曲型支撑件时,磁吸力减弱并小于键帽重量,键帽就会下压曲型支撑件以造成曲型支撑件的摆动。另外,支撑部会随着托板相对底板的移动而支撑或分离于曲型支撑件,以使键帽能随着曲型支撑件的下落而显著改变磁吸式按键及其键盘的整体结构高度。本发明的结构简单、组装容易,以磁吸效应驱动键帽的上下移动提供较稳定的操作可靠度。
附图说明
图1为本发明实施例的键盘的示意图。
图2为本发明实施例的磁吸式按键的元件爆炸图。
图3与图4分别为本发明实施例的磁吸式按键在不同操作模式的部分结构示意图。
图5为本发明另一实施例的曲型支撑件与薄膜电路板的结构侧视图。
图6与图7分别为本发明另一实施例的磁吸式按键在不同操作模式的部分结构示意图。
具体实施方式
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