[发明专利]等离子体处理装置以及等离子体处理方法

权利要求书

1.一种等离子体处理装置，其特征在于，具备：

处理容器；

气体供给系统，其向上述处理容器内供给气体；

高频波产生源，其向上述处理容器内导入等离子体产生用的高频波；以及

控制装置，其控制上述气体供给系统和上述高频波产生源，

其中，上述控制装置在第一处理中以第一能量条件来驱动上述高频波产生源，在第二处理中以第二能量条件来驱动上述高频波产生源，

并且，上述控制装置在上述第一处理与上述第二处理的切换时刻之前切换从上述气体供给系统向上述处理容器内供给的气体的种类，以将从上述气体供给系统向上述处理容器内供给的气体的种类从上述第一处理中使用的第一气体切换为上述第二处理中使用的第二气体，并将刚切换气体的种类后的初始期间内的上述第二气体流量设定成比经过上述初始期间后的稳定期间内的上述第二气体流量大。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，

还具备调整上述处理容器内的气体的排气效率的排气效率调整单元，

上述控制装置控制上述排气效率调整单元，以使上述初始期间内的上述处理容器内的气体的排气效率比上述稳定期间内的气体的排气效率高。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理装置，其特征在于，还具备排气效率调整单元，其调整上述处理容器内的气体的排气效率，

上述控制装置还控制上述排气效率调整单元，

其中，在上述处理容器内执行的上述第一处理和上述第二处理中的上述处理容器内的设定压力不同的情况下，上述控制装置基于上述第二处理中的上述处理容器内的设定压力和从上述气体供给系统供给的气体的设定流量来设定与该设定压力及该设定流量的值具有相关关系的上述排气效率调整单元的排气效率的目标值，控制上述排气效率调整单元使得实际的排气效率成为排气效率的上述目标值。

4.一种等离子体处理方法，其特征在于，

使用等离子体处理装置，该等离子体处理装置具备：

处理容器；

气体供给系统，其向上述处理容器内供给气体；

高频波产生源，其向上述处理容器内导入等离子体产生用的高频波；以及

控制装置，其控制上述气体供给系统和上述高频波产生源，

该等离子体处理方法具备：

以第一能量条件来驱动上述高频波产生源的第一步骤；以及

以第二能量条件来驱动上述高频波产生源的第二步骤，

在上述第一步骤与上述第二步骤的切换时刻之前切换从上述气体供给系统向上述处理容器内供给的气体的种类，以将从上述气体供给系统向上述处理容器内供给的气体的种类从上述第一步骤中使用的第一气体切换为上述第二步骤中使用的第二气体，将刚切换气体的种类后的初始期间内的上述第二气体流量设定成比经过上述初始期间后的稳定期间内的上述第二气体流量大。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理方法，其特征在于，

使上述初始期间内的上述处理容器内的气体的排气效率比上述稳定期间内的气体的排气效率高。