[发明专利]一种前驱体转化法制备含铁硅碳氮陶瓷的方法

说明书

技术领域

本发明涉及含铁硅碳氮陶瓷的制备方法，具体涉及一种前驱体转化法合成含铁硅碳氮陶瓷的方法，属无机非金属材料领域。

背景技术

随着信息时代的来临及多种多样的智能科技的快速发展，数据传输、电子通讯、无线网络系统、卫星发射、系统诊断与检测、雷达等都要利用和发射电磁波，不同发射源的电磁波总是相互干扰使得传输数据的准确性降低，外来电磁波的干扰甚至可导致电子器件的失灵与损坏，因此电磁辐射污染成为当前研究亟待解决的问题。然而通过单纯的电磁屏蔽并不能从根本上削弱、消除电磁波，利用电磁波吸收材料把电磁波的能量转化成其他形式的能量(如机械能、热能和电能)利用或耗散掉，有助于最大程度消除电磁波的影响。

结合以上出现的电磁波辐射污染问题，厚度薄、轻质、吸收频带宽和吸收强度高的电磁波吸收材料逐渐引起人们广泛的兴趣。

传统型吸波材料主要包括铁氧体、金属合金、石墨及碳化硅陶瓷等，具有较高的吸波强度，但其吸收频带不宽和密度较大。尤其是铁氧体和传统陶瓷类吸波材料由于密度大的原因限制了其在该领域的进一步发展，因此结构类似而相对轻质的前驱体陶瓷在吸波材料中具有潜在的应用价值。

前驱体陶瓷(Polymer-Derived Ceramics)是将有机高分子前驱体直接热解而得到的陶瓷材料。前驱体热解法是一种新型的陶瓷制备工艺，具有传统陶瓷工艺无法比拟的众多优点。前驱体陶瓷的制备可直接将液态有机前驱体在模具中经光固化或热固化成型后，热解烧结得到，有利于制备形状复杂的器件、薄膜、纤维或多孔制品，在MEMS、催化、3D打印等领域有着广阔的发展前景，因此它的出现立即引起材料科研工作者的青睐并得到迅速发展。前驱体陶瓷技术涉及到采用化学方法合成先驱体低聚物或聚合物，然后成型、裂解得到陶瓷，开创了从有机高分子制备无机陶瓷的新领域，实现了陶瓷制备工艺革命性的创新，集有机高分子和陶瓷两大材料的优点，对传统陶瓷工艺作出革命性的创新。

由于SiCN前驱体陶瓷具有独特的非晶结构、均一的化学组成以及良好的抗热震性和抗高温氧化性，相关研究也越来越受到人们的重视。但是，目前SiCN前躯体陶瓷在微波吸收方面性能不佳，使其在吸波材料领域的发展受到很大程度的限制。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种前驱体法制备含铁SiCN陶瓷的方法，该方法工艺简单、生产成本低、制备周期短，所制得样品电磁波衰减系数高，微波吸收性能好。

本发明技术方案如下：

一种前驱体法制备含铁SiCN陶瓷的方法，包括步骤如下：

(1)混料：在N₂气氛下，将聚硅氮烷(PSZ)、α-甲基丙烯酸和过氧化二异丙苯搅拌均匀，得到混合溶液；

所述聚硅氮烷：过氧化二异丙苯按质量比96％～98％：2％～4％配料，所述α-甲基丙烯酸为聚硅氮烷和过氧化二异丙苯总质量的10％～20％；

(2)交联固化：将步骤(1)所得混合溶液在3～5℃/min的升温速率从室温升温至500～700℃，固化2～6h；

(3)粉碎球磨：将步骤(2)固化所得的物料粉碎球磨，过100-200目筛；

(4)混料：将步骤(3)过筛所得的粉料加入纳米氧化铁并混合均匀；

所述纳米氧化铁按步骤(3)所得粉料质量的20～100％掺入配料；

(5)造粒成型：将步骤(4)所得粉料在10MPa～30MPa的压力下压制成型，冷等静压，获得生坯；

(6)热解/烧结：将步骤(5)所得生坯在N₂气氛保护下在1000℃～1400℃的温度进行热解/烧结，保温2h～4h，即得。

根据本发明，优选的，步骤(1)中所述的聚硅氮烷为HTT1800。HTT1800可市场购得，也可按现有技术自己制备得到。

根据本发明，优选的，步骤(2)中升温速率为3℃/min，固化温度600℃，固化时间4h。较低的升温速率和较高的固化时间以保证聚硅氮烷充分交联固化，促进反应的进行。

根据本发明，优选的，步骤(4)中所述纳米氧化铁按步骤(3)所得物料的30～100％掺入配料，进一步优选30％，60％，80％，100％。

根据本发明，优选的，步骤(5)中冷等静压在180MPa下进行，保压300s。

根据本发明，优选的，步骤(6)中从室温以3～5℃/min升温速率升温至1000℃～1400℃进行热解/烧结；进一步优选的，热解温度为1300℃。

本发明的原理：