[发明专利]一种可变可调掺杂元素的溅射靶材及其制作过程

权利要求书

1.一种可变可调掺杂元素的溅射靶材，其特征在于：包括本体、嵌固区，所述本体上设有多个嵌固区，所述嵌固区均匀设置在本体上的实际溅射区域，所述每个嵌固区内分别嵌固不同数量和不同种类的掺杂元素；所述本体与嵌固区的表面持平。

2.根据权利要求1所述的可变可调掺杂元素的溅射靶材，其特征在于：所述多个嵌固区内分别嵌固所需要的掺杂元素或本体材料，其数量和种类可根据所需要的掺杂比例和掺杂元素设置。

3.根据权利要求1所述的可变可调掺杂元素的溅射靶材，其特征在于：所述嵌固区为凹槽或沉槽。

4.根据上述任意一项权利要求所述的可变可调掺杂元素的制作过程，其特征在于：包括以下步骤：

(1)在靶材的溅射区域的位置上开出多个凹槽或者沉槽作为嵌固区；

(2)在凹槽或者沉槽处嵌固所需要掺杂的元素，掺杂元素的形状与凹槽或者多个凹圆洞或者多个凹方洞必须完全相同。

5.根据权利要求4所述的可变可调掺杂元素的溅射靶材的制作过程，其特征在于：所述每个凹槽或者沉槽处分别放置不同的掺杂元素。

6.根据权利要求5所述的可变可调掺杂元素的溅射靶材的制作过程，其特征在于：所述每个凹槽或者沉槽处嵌固掺杂元素后，掺杂元素与靶材表面持平。

7.根据权利要求6所述的可变可调掺杂元素的溅射靶材的制作过程，其特征在于：所述每个凹槽或者沉槽处嵌固的掺杂元素的比例根据溅射面积可调。