[发明专利]一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜有效
申请号: | 201510382003.0 | 申请日: | 2015-07-02 |
公开(公告)号: | CN104950427B | 公开(公告)日: | 2017-06-13 |
发明(设计)人: | 邓超;邢廷文;朱咸昌 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电技术研究所 |
主分类号: | G02B13/22 | 分类号: | G02B13/22;G03F7/20 |
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地址: | 610209 *** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 视场 数值孔径 球面 光刻 投影 物镜 | ||
1.一种大视场高数值孔径全球面光刻机投影物镜,该投影物镜将掩模上图像转移成像到硅片面上,其特征在于:该投影物镜从掩模面开始沿光轴依次包含:
一具有正光焦度的第一透镜组(G1);
一具有较小正光焦度或较小负光焦度的第二透镜组(G2);
一具有正光焦度的第三透镜组(G3);
一具有正光焦度的第四透镜组(G4);
其中,所述各透镜组焦距满足以下关系:
8.0<|fG2/fG1|<20.0
0.18<|fG3/fG2|<0.3
0.21<|fG4/fG3|<0.56
其中:
fG1:所述第一透镜组(G1)的焦距;
fG2:所述第二透镜组(G2)的焦距;
fG3:所述第三透镜组(G3)的焦距;
fG4:所述第四透镜组(G4)的焦距。
2.如权利要求1所述的光刻机投影物镜,其特征在于:
所述第一透镜组(G1)由至少两片透镜构成,其中一片为负透镜,凹面面对掩膜方向,另一片为正透镜;
所述第二透镜组(G2)由至少四片透镜构成;其中除了包含一片正透镜外,还包含了两片凹面相对的负透镜,及位于两负透镜之间的一片双凹负透镜;
所述第三透镜组(G3)由至少三片透镜构成;其中包含一片正透镜和一对凹面相对的负透镜;
所述第四透镜组(G4)由至少两片透镜构成;其中一片为正透镜,另一片为负透镜,该负透镜凹面面对硅片面。
3.如权利要求1所述的光刻机投影物镜,其特征在于:
所述投影物镜系统成近似对称,对称轴为孔径光阑,即第一透镜组(G1)、第二透镜组(G2)与第三透镜组(G3)、第四透镜组(G4)以孔径光阑为中心呈对称排列。
4.如权利要求1所述的光刻机投影物镜,其特征在于:
所述第一透镜组(G1)、第二透镜组(G2)与第三透镜组(G3)、第四透镜组(G4)呈对称排列构成一个物方、像方双远心光路。
5.如权利要求1所述的光刻机投影物镜,其特征在于:
所述投影物镜适用的波段为I线,其中心波长为365nm。
6.如权利要求2所述的光刻机投影物镜,其特征在于:
所述投影物镜由至少一种高折射率材料与至少一种低折射率材料构成,所述高折射率材料是指I线折射率大于1.55的材料,包括I线折射率大于1.55且阿贝数小于45的材料;所述低折射率材料是指I线折射率小于1.55的材料,包括I线折射率小于1.55且阿贝数大于55的材料。
7.如权利要求6所述的光刻机投影物镜,其特征在于:
所述第一透镜组(G1)至少包含了一片高折射率小阿贝数材料的透镜和一片低折射率大阿贝数材料的透镜;
所述第二透镜组(G2)至少包含了一片高折射率小阿贝数材料的透镜和一片低折射率大阿贝数材料的透镜;
所述第三透镜组(G3)至少包含了一片高折射率小阿贝数材料的透镜和一片低折射率大阿贝数材料的透镜;
所述第四透镜组(G4)至少包含了一片高折射率小阿贝数材料的透镜和一片低折射率大阿贝数材料的透镜。
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