[发明专利]测量探头有效
申请号: | 201510382742.X | 申请日: | 2015-07-02 |
公开(公告)号: | CN106197354B | 公开(公告)日: | 2017-10-03 |
发明(设计)人: | 岛冈敦;宫崎智之;日高和彦 | 申请(专利权)人: | 株式会社三丰 |
主分类号: | G01B21/20 | 分类号: | G01B21/20 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)11277 | 代理人: | 刘新宇,张会华 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 测量 探头 | ||
1.一种测量探头,其包括:触针,其具有用于接触被测物体的接触部;轴运动机构,其具备移动构件,该移动构件使该接触部能够沿轴向移动;以及旋转运动机构,其具备旋转构件,该旋转构件通过旋转运动而使所述接触部能够沿着与该轴向成直角的面移动,其特征在于,
该测量探头包括:
轴外壳构件,其用于支承所述轴运动机构;
旋转外壳构件,其用于支承所述旋转运动机构;以及
位移检测器,其被支承于所述轴外壳构件,并用于检测所述移动构件的位移,
所述轴运动机构支承所述旋转外壳构件,并且所述旋转构件支承所述触针。
2.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
所述位移检测器输出能够进行所述移动构件的相对位置的检测的相对位置检测信号。
3.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
所述位移检测器输出能够进行所述移动构件的绝对位置的检测的绝对位置检测信号。
4.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
在所述轴外壳构件设有干涉光学系统,该干涉光学系统包括:干涉光源部;参照镜,其用于反射来自该干涉光源部的光;以及目标镜,其配置于所述移动构件,并用于反射来自该干涉光源部的光,该干涉光学系统能够使分别来自该参照镜和该目标镜的反射光进行干涉而生成多个干涉条纹,
所述位移检测器能够检测该干涉光学系统所生成的所述多个干涉条纹的相位变化。
5.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
所述旋转构件在相对于所述旋转运动机构的旋转中心而言与触针相反的一侧的部位设有平衡构件,该旋转中心与该平衡构件之间的距离被设为能够进行调整。
6.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
该测量探头包括:
平衡配重,其与所述触针的质量对应;以及
平衡机构,其被支承于所述轴外壳构件,并用于取得该触针与该平衡配重之间的平衡。
7.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
该测量探头具备前级外壳构件,该前级外壳构件利用能够定位的卡合部以能够装卸的方式连结并支承用于支承所述移动构件与所述旋转构件这两者的外壳构件,
在所述旋转构件的与触针相反的一侧的端部设有基准构件,用于检测该基准构件的与所述触针的旋转动作对应的位移的姿态检测器收纳于所述前级外壳构件。
8.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
在所述旋转构件的与触针相反的一侧的端部设有基准构件,用于检测该基准构件的与所述触针的旋转动作对应的位移的姿态检测器收纳于用于支承所述移动构件与所述旋转构件这两者的外壳构件。
9.根据权利要求8所述的测量探头,其特征在于,
所述轴运动机构具备使所述移动构件能够进行位移的多个第1隔膜结构体,
在所述旋转运动机构被支承于该轴运动机构时,
所述姿态检测器配置于该旋转运动机构与该多个第1隔膜结构体之间。
10.根据权利要求7所述的测量探头,其特征在于,
所述基准构件被设为用于反射光的反射镜,
该测量探头设有用于使光沿着光轴向该反射镜入射的光源部,
所述姿态检测器用于检测自该反射镜反射来的反射光的相对于该光轴进行的位移。
11.根据权利要求10所述的测量探头,其特征在于,
所述光轴被设置为通过所述旋转运动机构的旋转中心。
12.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
所述轴运动机构具备使所述移动构件能够进行位移的多个第1隔膜结构体,
该测量探头具备将该多个第1隔膜结构体的变形量限制在弹性变形的范围内的第1限制构件。
13.根据权利要求1所述的测量探头,其特征在于,
所述旋转运动机构具备使所述旋转构件能够进行位移的第2隔膜结构体,
该测量探头具备将该第2隔膜结构体的变形量限制在弹性变形的范围内的第2限制构件。
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