[发明专利]直列式化学气相沉积系统

说明书

技术领域

本发明涉及直列式化学气相沉积系统(in-line type chemical vapor deposition system)，并且更具体地，涉及能够精确地使沉积对象保持在某一工艺温度并且同时进行水平运动以便适合于该直列式化学气相沉积方法的结构的直列式化学气相沉积系统。

背景技术

化学气相沉积CVD技术已被广泛用于精确制造半导体，液晶显示器等领域以及一般工业领域，特别是，具有高沉积效率的等离子体增强化学气相沉积PECVD已被广泛使用。

一般来说，关于PECVD，更多地使用进行化学气相沉积方法的单晶片型方法，其中一个或多个沉积对象载置在腔室内并且该腔室的整个内部保持在真空环境，以便向整个腔室的内部注入反应物。

然而，单晶片型化学气相沉积技术在其方法的自动化和非常困难的方法粘性时间的减少方面具有局限性。

发明内容

因此，本发明是为了解决在现有技术中出现的上述问题，并且本发明的目的是提供一种能够精确地使沉积对象保持在某一工艺温度并且同时进行水平运动以便适合于该直列式化学气相沉积方法的结构的直列式化学气相沉积系统。

为了实现上述目的，根据本发明，提供了一种直列式化学气相沉积系统，包括：布置在中心并且在腔室内在水平方向上移动沉积对象的同时在沉积对象的表面上进行薄膜的化学气相沉积的加工腔室；设置在加工腔室的一侧并提供沉积对象进入该加工腔室的装载腔室；以及设置在装载腔室的相对侧并从该加工腔室接收沉积对象以便将沉积对象排出到外部的卸载腔室。

根据本发明，沉积对象优选地包括：预定板状的安装盘；以及多个以预定间隔设置在该安装盘的顶表面上的沉积对象基板。

此外，根据本发明，该加工腔室优选地包括：用于在内部形成预定的真空空间的腔室；设置在该腔室内的上侧的中心并且为了沉积源材料到沉积对象表面的沉积在向下的方向上将沉积源材料喷洒成线状的线沉积部件；在该腔室内设置在装载腔室侧并且接收从该装载腔室提供的沉积对象的接收部件；设置在该腔室内的下侧并接收在接收部件接收到的沉积对象以便水平移动沉积对象，使得该沉积对象在处理温度被保持的状态通过线沉积部件的下侧的水平移动部件；以及在该腔室内设置在卸载腔室侧并且在该过程完成之后接收由水平移动部件传送的沉积对象以便将沉积对象排出到卸载腔室的排出部件。

此外，根据本发明，沉积对象水平移动部件优选地包括：用于将沉积对象安装在其顶表面上并且在预定的温度加热该沉积对象的加热夹具；用于驱动该加热夹具在水平方向上往复运动的水平移动装置；以及设置成连接到水平移动装置的下部并且在竖直方向上操作水平移动装置的竖直驱动装置。

此外，该水平移动装置优选地包括用于在该加热夹具被安装在其顶表面上的状态在水平方向上往复移动该加热夹具的传送带；用于在两侧旋转该传送带的旋转辊；以及用于操作该旋转辊的旋转力提供部件。

此外，根据本发明，该竖直驱动装置优选地包括：连接到水平移动装置的下部并且通过穿透该腔室的底壁延伸到外部的竖直连接部件；设置成连接到竖直连接部件的下端的水平板；以及用于在竖直方向上操作该水平板的竖直操作力提供部件。

此外，根据本发明，旋转力提供部件优选地设置在水平板上。

此外，根据本发明，该加热夹具优选地包括：板状的夹具主体；设置在夹具主体内部并且使用从外部供给的电力加热的加热器；以及连接到加热器同时与该夹具主体的竖直和水平操作关联移动并且向该加热器提供电力的供电部件。

此外，根据本发明，该供电部件优选地包括：设置为穿过该腔室的底壁并且具有在该中心形成的电源线安装孔的竖直轴；设置成连接到该竖直轴的下端并且驱动该竖直轴在竖直方向上移动的竖直轴竖直驱动装置；以及用于连接竖直轴的上端到夹具主体并且具有多轴机器人结构以便响应于夹具主体的水平移动而移动并且连接电源线的可变连接部件。

根据本发明，该直列式化学气相沉积系统在反复水平移动期间在该线沉积部件的下侧实现用于该沉积对象的沉积过程，使得整个系统可以形成为直列式并且该沉积对象的温度可以在此过程中被均匀地保持，从而实现非常精确的化学气相沉积过程。

附图说明

结合附图从本发明的优选实施例的以下详细描述中，本发明的上述和其它目的，特征和优点将是显而易见的，其中：

图1是用于说明根据本发明的一个实施例的直列式化学气相沉积系统的结构的视图；

图2是用于说明根据本发明的该实施例的沉积对象的结构的平面图；