[发明专利]玫瑰金色低辐射镀膜玻璃及其制备方法和应用有效

专利信息
申请号: 201510395558.9 申请日: 2015-07-06
公开(公告)号: CN105314888B 公开(公告)日: 2018-12-25
发明(设计)人: 董清世;周枫;蔡法清 申请(专利权)人: 信义节能玻璃(芜湖)有限公司
主分类号: C03C17/36 分类号: C03C17/36;E04C2/54
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 241000 安徽省芜湖市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 玫瑰 金色 辐射 镀膜 玻璃 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃,其特征在于:包括玻璃基板和沉积于玻璃基板表面的功能膜层;所述功能膜层至少包括依次从玻璃基板向外逐层沉积而成的第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层;

所述第一电介质层为氮化硅膜层,所述第二电介质层为氧化锌膜层,所述核心介质层为铜膜层,所述保护层为镍铬合金膜层,所述第三电介质层为氮化硅膜层;所述第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层的厚度分别为10.5~32.1nm、3.8~17.9nm、13.2~28.3nm、2.6~7.5nm和10.2~27.3nm。

2.如权利要求1所述的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃,其特征在于:所述玻璃基板为浮法玻璃基板。

3.一种玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制造方法,其特征在于:包括如下步骤:

步骤S01、对玻璃基板进行清洗处理;

步骤S02、在所述玻璃基板表面上依次沉积如下功能膜层:第一电介质层、第二电介质层、核心介质层、保护层和第三电介质层;

其中,沉积的所述第一电介质层为氮化硅膜层,所述第二电介质层为氧化锌膜层,所述核心介质层为铜膜层,所述保护层为镍铬合金膜层,所述第三电介质层为氮化硅膜层;

所述第一电介质层厚度为10.5~32.1nm,所述第二电介质层厚度为3.8~17.9nm,所述核心介质层厚度为13.2~28.3nm,所述保护层厚度为2.6~7.5nm,所述第三电介质层厚度为10.2~27.3nm。

4.如权利要求3所述的玫瑰金色低辐射镀膜玻璃的制造方法,其特征在于:在所述沉积功能膜层的过程中,控制溅射真空度为2×10-3mbar~5×10-3mbar。

5.如权利要求1~2任一所述玫瑰金色低辐射镀膜玻璃在建筑玻璃幕墙、玻璃屋顶、雨棚、建筑门窗及室内装饰的应用。

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