[发明专利]一种化学槽的自动清洗装置

权利要求书

1.一种化学槽的自动清洗装置，包括化学槽，其特征在于，还包括：

清洗药液供给配管，设于所述化学槽的一端，用于向所述化学槽输送去除颗粒杂质的清洗药液，所述清洗药液供给配管上具有控制清洗药液输送的输送开关；

清洗药液排放配管，设于所述化学槽的另一端，用于排放所述化学槽内清洗后的清洗药液，所述清洗药液排放配管上具有控制清洗药液排放的排放开关；

药液控制单元，与所述输送开关以及排放开关连接，用于控制所述输送开关以及排放开关的启闭以及清洗药液的流量和清洗时间。

2.根据权利要求1所述的化学槽的自动清洗装置，其特征在于，所述清洗药液为过氧化氢溶液。

3.根据权利要求1所述的化学槽的自动清洗装置，其特征在于，所述化学槽内设有用于检测清洗药液液位的液位传感器，所述液位传感器与药液控制单元连接；当清洗药液液位达到预设阈值时，所述药液控制单元自动切断所述输送开关。

4.根据权利要求1所述的化学槽的自动清洗装置，其特征在于，所述药液控制单元具有计时器，所述计时器用于对清洗药液的清洗时间进行计算。

5.根据权利要求1所述的化学槽的自动清洗装置，其特征在于，所述药液控制单元具有存储单元，所述存储单元用于对所述化学槽的清洗频率以及清洗时间进行记录。

6.根据权利要求1所述的化学槽的自动清洗装置，其特征在于，所述清洗药液供给配管的端部设有多个喷嘴，所述喷嘴均匀布置在所述化学槽的上方。

7.根据权利要求6所述的化学槽的自动清洗装置，其特征在于，所述喷嘴可调节至预设角度。

8.根据权利要求1所述的化学槽的自动清洗装置，其特征在于，所述化学槽上设有超声波振动器，所述超声波振动器使所述化学槽内的颗粒杂质脱离所述化学槽。