[发明专利]一种匀光膜及其使用设备

权利要求书

1.一种匀光膜，其特征在于，所述匀光膜包括三层结构：透明基材层、匀光层、和扩散层；所述透明基材层的一侧设置匀光层，所述透明基材层的另一侧设置扩散层；所述的匀光层由若干条棱柱单元组成；每一条棱柱单元沿伸长方向呈波浪状周期性或不规律高低起伏变化，高的部分称为波峰，低的部分称为波谷，所述波峰和波谷交替出现；

同一条棱柱单元内，任意相邻两个波峰之间的距离L相同或不同；同一条棱柱单元内，任意相邻波峰与波谷高度差ΔH相同或不同；相邻的棱柱单元在同一横向截面上的相邻的圆弧的最高点的水平距离P相同或不同；

L为0.3-1mm，ΔH为1-10μm，圆弧的半径R为3μm-10μm，P为1-10μm；

所述的扩散层包括100重量份的胶黏剂和35-80重量份的扩散微珠；所述扩散微珠的粒径范围是1-100μm。

2.根据权利要求1所述的匀光膜，其特征在于，所述的棱柱单元的横截面为圆弧和弦围成的面，弦的长度小于或等于圆弧所在圆的直径，圆弧半径R为0.001-1mm；或者，所述的棱柱单元的横截面为椭圆圆弧和连接圆弧两端的线段围成的面，线段长度小于或等于椭圆的长轴的长度，椭圆的长轴长度是短轴长度的1.1-50倍。

3.根据权利要求1所述的匀光膜，其特征在于，左右相邻的棱柱单元的波峰位置相互错开。

4.根据权利要求1所述的匀光膜，其特征在于，所述胶黏剂的材质是丙烯酸树脂或聚氨酯；所述扩散微珠的材质是PS、PMMA、二氧化硅和碳酸钙中的一种或其中至少两种的组合。

5.一种使用匀光膜的设备，其特征在于，所述设备包括点光源或点阵列光源，和权利要求1-4之一所述的匀光膜；所述点光源或点阵列光源置于所述匀光膜的扩散层一侧或匀光层一侧。

6.一种制备权利要求1-4之一所述的匀光膜的方法，其特征在于，所述方法包括下述步骤：

(1)制作扩散层：将扩散微珠分散至胶黏剂中，形成胶黏层涂布液，将混合均匀的胶黏层涂布液涂布在经过预处理的透明基材的一面，并通过固化形成扩散层；

(2)制作匀光层：通过超精密激光雕刻设备或超精密数控加工设备将匀光层的形状结构制作在特定模具之上，再利用特定模具通过UV固化的方式转印结构至透明基材的另一面上，制作完成匀光层，从而得到所述的匀光膜。