[发明专利]一种阵列基板及其制作方法、显示装置有效
申请号: | 201510400994.0 | 申请日: | 2015-07-09 |
公开(公告)号: | CN104932127B | 公开(公告)日: | 2018-07-06 |
发明(设计)人: | 张鹏举;杜晓健;徐斌 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13;G02F1/1362 |
代理公司: | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 阵列基板 钝化层 第二电极 第一电极 显示装置 漏极 源层 源极 衬底基板 电连接 公共电极引线 栅极绝缘层 侧面 层叠设置 构图工艺 倾斜侧面 同层设置 相对设置 制备过程 覆盖 制作 应用 | ||
1.一种阵列基板,包括衬底基板以及层叠设置于所述衬底基板上的栅极、栅极绝缘层和有源层,其特征在于,所述阵列基板还包括设置于所述有源层上的钝化层以及设置于所述钝化层上的同层设置的源极、漏极、第一电极和第二电极;
所述钝化层上设置有第一过孔,所述第一过孔包括相对设置的两个倾斜侧面;所述第一电极覆盖所述第一过孔的一个侧面的至少一部分,所述第二电极覆盖所述第一过孔的另一个侧面的至少一部分,且所述第一电极的底部朝所述第二电极的方向延伸,以及所述第二电极的底部朝所述第一电极的方向延伸,所述第二电极与公共电极引线电连接;
所述钝化层上还设置有第二过孔,所述源极和所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接,且所述第一电极与所述源极或所述漏极电连接。
2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述衬底基板上还设置有数据线,所述数据线与所述源极和所述漏极同层设置,所述第一过孔的两个侧面分别邻近相邻的两条数据线,且均与所述数据线平行设置。
3.根据权利要求2所述的阵列基板,其特征在于,所述第一电极完全覆盖所述第一过孔的一个侧面,且所述第一电极的顶部朝远离所述第二电极的方向延伸,所述第二电极完全覆盖所述第一过孔的另一侧面,且所述第二电极的顶部朝远离所述第一电极的方向延伸。
4.根据权利要求1-3任一项所述的阵列基板,其特征在于,所述公共电极引线与所述栅极同层设置,所述栅极绝缘层上设置有对应于所述第二电极的第三过孔,所述第二电极通过所述第三过孔与所述公共电极引线电连接。
5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述钝化层的材质为树脂材质。
6.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述第一电极和所述第二电极的材质均为金属材质。
7.一种显示装置,其特征在于,包括如权利要求1-6任一项所述的阵列基板。
8.一种阵列基板的制作方法,其特征在于,包括:
经过第一次构图工艺在衬底基板上形成包括栅极的图形;
在形成有包括所述栅极的图形的所述衬底基板上形成栅极绝缘层;
经过第二次构图工艺在形成有所述栅极绝缘层的所述衬底基板上形成包括有源层的图形;
在形成有包括有源层的图形的所述衬底基板上形成钝化层,经过第三次构图工艺形成第一过孔和对应于所述有源层的第二过孔,所述第一过孔包括相对设置的两个倾斜侧面;
经过第四次构图工艺在形成有所述钝化层的所述衬底基板上形成包括源极、漏极、第一电极和第二电极的图形,其中,所述第一电极覆盖所述第一过孔的一个侧面的至少一部分,所述第二电极覆盖所述第一过孔的另一个侧面的至少一部分,且所述第一电极的底部朝所述第二电极的方向延伸,以及所述第二电极的底部朝所述第一电极的方向延伸,所述源极和所述漏极通过所述第二过孔与所述有源层连接,且所述第一电极与所述源极或所述漏极电连接,所述第二电极与公共电极引线电连接。
9.根据权利要求8所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,在形成所述源极和所述漏极的同时,形成数据线,所述第一过孔的两个侧面均与所述数据线平行设置,且分别邻近相邻的两条数据线。
10.根据权利要求8或9所述的阵列基板的制作方法,其特征在于,所述公共电极引线与所述栅极同时形成;
则在形成栅极绝缘层以后,所述方法还包括:经过构图工艺形成对应于所述第二电极的第三过孔,所述第二电极通过所述第三过孔与所述公共电极引线电连接。
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