[发明专利]一种静电保护电路有效

专利信息
申请号: 201510401709.7 申请日: 2015-07-09
公开(公告)号: CN105071365B 公开(公告)日: 2018-06-29
发明(设计)人: 单毅 申请(专利权)人: 武汉新芯集成电路制造有限公司
主分类号: H02H9/04 分类号: H02H9/04
代理公司: 上海申新律师事务所 31272 代理人: 俞涤炯
地址: 430205 湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 三极晶体管 静电保护电路 电流产生单元 集电极电流 触发模块 电路电子 耦合效应 电压低 发射极 高电平 正反馈 放电 触发 导通 电阻 构建 电路 响应
【说明书】:

发明涉及电路电子技术领域,具体涉及一种静电保护电路,通过构建一包括触发模块、电流产生单元和SCR模块的静电保护电路,当VDD有正的ESD脉冲时,RC耦合效应使第一NMOS管的栅极变为高电平,产生从VDD到第一PMOS管、第一NMOS管到GND的第一电流,第二PMOS管导通,产生第二电流,使NPN三极晶体管开启,NPN三极晶体管的集电极电流流经第一电阻使得PNP三极晶体管的发射极‑基极正偏,PNP三极晶体管开启,此正反馈效应使得PNP三极晶体管、NPN三极晶体管形成的SCR开启放电。本技术方案的触发电压低、响应速度快,电路仅需很小的尺寸就可以实现非常好的ESD保护性能。

技术领域

本发明涉及电路电子技术领域,具体涉及一种静电保护电路。

背景技术

Electrostatic discharge(ESD)问题在IC产品中随着节点的变小而日趋严重。常用的ESD保护器件有MOS,DIODE,SCR。其中SCR单位尺寸的ESD保护能力最强。图1是常用的基于NMOS的ESD保护结构。利用RC耦合的特性,当VDD上有正向ESD脉冲时,RC耦合效果使得最后一级NMOS的栅极变高,NMOS开启放电。缺点在于NMOS的单位尺寸放电能力比较差,此电路设计需要非常大尺寸的放电NMOS晶体管。由于NMOS尺寸很大,所以前级需采用3级反相器的结构,以保证NMOS能够在ESD状况下更快地导通放电。图2是传统的SCR结构。SCR的触发电压取决于NW/PW的反向击穿电压,通常该击穿电压过高导致SCR的触发电压(Vt1)过高。同时,由于SCR的保持电压(Vh)、保持电流(Ih)都很低,使得SCR容易误触发而发生闩锁效应(Latch-up)。为了解决此问题,图3是现有技术中的低电压触发SCR(LVTSCR)。N+/PW的反向击穿电压远低于NW/PW,使得LVTSCR的触发电压比传统SCR有所降低。因此,如何设计一种关于LVTSCR电路的静电保护成为本领域技术人员面临的一大难题。

发明内容

针对上述问题,本发明提出一种静电保护电路,通过构建一包括触发电路、电流镜模块和LVTSCR模块的静电保护电路,当VDD有正的ESD脉冲时,RC耦合效应使得第一NMOS晶体管的栅极变为高电平,第一NMOS晶体管泄放ESD电流,产生从VDD到第一PMOS晶体管、第一NMOS晶体管到GND的电流通路第一电流,使第二PMOS晶体管导通,根据电流镜原理,产生的第二电流与第一电流的比例取决于第一PMOS晶体管与第二PMOS晶体管的尺寸比例。通过控制第一电流,我们可以得到我们需要的大小的第二电流,第二电流流入位于栅极一侧掺杂区并经由Rpwell流入GND,Rpwell两端产生的压降,使得寄生NPN晶体管的基极-发射极正偏,NPN晶体管开启,NPN晶体管的集电极电流流经第一电阻Rnwell使得PNP晶体管T1的发射极-基极正偏,PNP晶体管T1开启,此正反馈效应使得PNP晶体管T1、NPN晶体管T2形成的SCR开启放电,该技术方案具体为:

一种静电保护电路,其中,所述电路包括:

SCR模块,包括串联连接的第一电阻、NPN晶体管和串联连接的PNP晶体管、第二电阻,所述第一电阻的一端连接到第一参考电压,所述第一电阻的与所述一端相对的另一端与PNP晶体管的基极共同连接到NPN晶体管的集电极,所述第二电阻的一端连接到第二参考电压,所述第二电阻的相对于与所述一端的另一端与NPN的基极共同连接到PNP晶体管的集电极,以及

所述NPN晶体管的发射极连接到第二参考电压,所述PNP的发射极连接到第一参考电压;

触发模块,提供触发信号;

电流产生单元,在接收到所述触发信号时提供一个预设电流;其中当施加在第一参考电压上的ESD静电脉冲在触发所述触发模块产生触发信号时,电流产生单元产生的预设电流流经第二电阻,藉此在第二电阻上产生压降从而使NPN晶体管导通并进一步使PNP晶体管导通来触发SCR导通,以此释放ESD静电来稳定该第一参考电压。

上述的静电保护电路,其中,所述触发信号为高电平触发信号。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉新芯集成电路制造有限公司,未经武汉新芯集成电路制造有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510401709.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top