[发明专利]流控参比电极系统以及应用其的生化分析方法

权利要求书

1.一种流控参比电极系统，其特征在于，包含：一个参比液注入口，至少一个待测液注入口，至少一个出口，参比通道，待测液通道，检测通道和废液通道；

所述参比液注入口与所述参比通道连通；所述待测液注入口与所述待测液通道连通；所述检测通道与所述出口连通；所述参比通道、所述待测液通道、所述检测通道和所述废液通道交汇形成四通；

所述参比通道连接准参比电极；所述检测通道连接测试电极；

所述准参比电极为金属，其中，参比液从所述参比液注入口注入，与所述准参比电极形成稳定的电化学电势；

所述测试电极为离子敏感场效应管ISFET或金属敏感电极；

所述检测通道上设有一开口，所述ISFET的离子敏感电极或所述金属敏感电极安装在所述开口处。

2.根据权利要求1所述的流控参比电极系统，其特征在于，所述参比通道与所述待测液通道之间的夹角呈预设角度。

3.根据权利要求2所述的流控参比电极系统，其特征在于，所述参比通道与所述待测液通道之间的夹角呈90度，其中一个通道呈水平方向，另一个通道呈竖直方向，且竖直方向的通道的内径与水平方向的通道内径呈预设值。

4.根据权利要求1所述的流控参比电极系统，其特征在于，所述参比通道上设有一开口，所述准参比电极从所述开口处连接到通道内。

5.根据权利要求1所述的流控参比电极系统，其特征在于，所述准参比电极从所述参比液注入口连接到所述参比通道内。

6.一种应用如权利要求1至5任一项所述的流控参比电极系统的生化分析方法，其特征在于，包含以下步骤：

从所述参比液注入口注入参比液；其中，注入所述参比溶液的速度根据所述参比通道与所述待测液通道之间的夹角及内径值确定；

待参比液注入结束之后，从所述待测液注入口注入待测试溶液；其中，注入待测试溶液的速度根据所述参比通道与所述待测液通道之间的夹角及内径值、测试电极的响应时间确定；

监测测试电极的电信号，并分析所述待测试溶液的组成成分或浓度。

7.根据权利要求6所述的生化分析方法，其特征在于，在注入参比溶液过程中，待参比液将所述参比通道、所述待测液通道交汇处的测试液冲洗干净之后，停止注入参比溶液。

8.根据权利要求6所述的生化分析方法，其特征在于，在注入待测试溶液过程中，待测试液将所述待测液通道、所述检测通道中的参比液冲洗干净之后，监测测试电极的电信号，待所述测试电极的电信号稳定时，停止注入待测试溶液。