[发明专利]电化学机械抛光装置

说明书

技术领域

本发明涉及抛光技术领域，尤其涉及一种电化学机械抛光装置。

背景技术

目前常用的抛光技术包括机械抛光，化学抛光，以及电化学抛光。其中， 机械抛光是通过挤压磨料，从而将工件的表面磨平。化学抛光是通过有规则 地溶解工件表面，以使其光亮平滑。电化学抛光也称电解抛光，是以被抛工 件为阳极，不溶性金属为阴极，两极同时浸入到电解槽中，通以直流电而产 生有选择性的阳极溶解，从而使工件表面光亮度增大，达到镜面效果。

然而，现有机械抛光技术的加工精度不高，抛光面的粗糙度较大，不适 于抛光精密器件。而在利用化学方式或电化学方式进行抛光管件内表面时， 由于化学溶液在管件内的流速不同，且工件抛光表面的溶解程度难以控制， 从而造成管壁厚度的不均匀性。

因此，需要一种电化学机械抛光装置，其可实现管件内壁的均匀抛光， 且具有高抛光效果。

发明内容

本发明解决的问题是提供一种电化学机械抛光装置，其可实现管件内壁 的均匀抛光，且具有高抛光效果。

为解决上述问题，本发明提供了一种用于管件内壁抛光的电化学机械抛 光装置。所述电化学机械抛光装置包括：包括：工作台，所述管件适于置于 所述工作台上；导引结构，所述工作台适于沿所述导引结构滑动，以带动所述 管件移动；以及电极块包括第一电极块和第二电极块，所述第一电极与所述 第二电极极性相反，所述第一电极块适于与所述管件电连接，所述第二电极 适于在所述管件随所述工作台沿所述导引结构滑动时穿过所述管件。

可选的，所述的电化学机械抛光装置，进一步包括悬臂，所述悬臂沿所 述导引结构的延伸方向配置且适于穿过所述管件，所述第二电极块配置于所 述悬臂上。

可选的，所述的电化学机械抛光装置进一步包括一支撑架，所述悬臂的 一端配置于所述支撑架上，另一端悬空。

可选的，所述的电化学机械抛光装置进一步包括两支撑件，所述悬臂的 两端分别适于配置于所述两支撑件上。

可选的，所述的电化学机械抛光装置进一步包括紧固件，所述紧固件适 于拉紧所述悬臂，以使所述悬臂平行于所述导引结构的所述延伸方向。

可选的，所述的电化学机械抛光装置进一步包括绝缘件，所述绝缘件配 置所述悬臂上，且位于所述第二电极块的一侧，所述绝缘件的截面尺寸大于 所述第二电极块的截面尺寸。

可选的，所述第二电极块与所述悬臂电连接。

可选的，所述悬臂由包括导电内芯和绝缘涂层覆盖所述导电内芯，且在 配置有所述第二电极块的位置露出所述导电内芯。

可选的，所述的电化学机械抛光装置进一步包括底座，所述支撑件固定 于所述底座上。

可选的，所述工作台包括固持部和滑动部，所述固持部适于固定所述管 件，所述滑动部适于沿所述导引结构滑动。

可选的，所述工作台的所述固持部包括卡槽，所述管件适于被配置于所 述卡槽内。

可选的，所述固持部适于将多个所述管件同时配置于其上。

可选的，所述工作台的所述滑动部和所述导引结构分别包括滑槽和滑轨， 所述滑槽与所述滑轨相配合以使得所述工作台沿所述导引结构滑动。

可选的，所述第一电极块适于通过所述工作台的所述固持部与所述管件 电连接。

与现有技术相比，本发明的技术方案具有以下优点：

首先，在本发明提供的电化学机械抛光装置中，待抛光的管件可相对于 所述负电极块运动。如此一来，当所述管件相对于所述负电极块匀速运动时， 管件内壁不同部位的抛光量相同，从而可以实现管件内壁的均匀抛光。

其次，在利用本发明提供的电化学抛光装置时，所述负电极块悬置于所 述管件的内部，而且位于所述管件的中心轴位置。因此，所述负电极块到所 述管件内壁的垂直距离相同，从而进一步增强抛光效果的均匀性。

附图说明

图1是本发明的一实施例提供的电化学机械抛光装置的结构示意图；

图2是本发明的一实施例提供的电化学机械抛光装置的剖面示意图；

图3是本发明的一实施例提供的电化学机械抛光装置的部分示意图；

图4是本发明的另一实施例提供的电化学机械抛光装置的结构示意图；

图5是本发明的另一实施例提供的电化学机械抛光装置的剖面示意图。

具体实施方式