[发明专利]一种离子源维护装置及离子源维护方法

权利要求书

1.一种离子源维护装置，其特征在于，基于真空腔体进行镀膜操作后的维护，所述离子源维护装置包括：

无缝真空管，具有两开口端，且一所述开口端通过真空法兰与所述真空腔体贯通连接；

真空波纹管，可伸缩地插接于所述无缝真空管的另一所述开口端；

离子源隔离保护套，所述离子源隔离保护套内设置有离子源，且该离子源隔离保护套设置于所述真空波纹管内部，通过所述真空波纹管的伸缩带动所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移至所述真空腔体以进行所述镀膜操作，或带动所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移出所述真空腔体以进行所述维护操作；并且

所述真空法兰上设置有插板阀，用于在所述维护操作时将所述离子源隔离保护套与所述真空腔体隔离。

2.如权利要求1所述的离子源维护装置，其特征在于，所述离子源隔离保护套中的离子源为射频离子源或直流离子源。

3.如权利要求1所述的离子源维护装置，其特征在于，所述离子源隔离保护套包括：

屏蔽层，包裹于所述离子源的外表面，以屏蔽所述离子源产生的电磁效应；

绝缘层，包裹于所述屏蔽层的外表面，以将所述屏蔽层与所述真空波纹管隔离。

4.如权利要求1所述的离子源维护装置，其特征在于，所述离子源维护装置还包括：

推拉装置，固定设置于所述真空波纹管外部且与所述无缝真空管的另一所述开口端连接，通过调节所述推拉装置来控制所述真空波纹管的伸缩度，从而带动所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移至所述真空腔体中或从所述真空腔体中移出。

5.如权利要求4所述的离子源维护装置，其特征在于，所述推拉装置为既能固定支撑又能推拉的螺丝杆、弹性可伸缩结构或记忆合金，以支撑所述真空波纹管并控制所述真空波纹管的伸缩程度，并且

所述推拉装置上设置有刻度，用以标记所述真空波纹管的伸缩程度。

6.如权利要求1所述的离子源维护装置，其特征在于，所述无缝真空管上设置有一真空接口，以用于抽真空或填充保护气体。

7.一种离子源维护方法，其特征在于，基于上述权利要求1-6中任意一项所述的离子源维护装置，所述方法包括：

通过所述真空波纹管的伸缩将所述离子源隔离保护套以及内部的离子源移出所述真空腔体后，关闭所述插板阀，所述离子源隔离保护套以及内部的离子源和所述真空波纹管以及所述无缝真空管形成与所述真空腔体隔离的密闭真空的离子源维护腔；

在所述离子源维护腔中填充保护气体至大气压后，拆卸所述真空法兰以打开所述离子源维护腔，对所述离子源隔离保护套中的离子源进行维护操作；并且

所述维护操作过程中持续通入所述保护气体，使所述离子源维护腔处于保护气体气氛下。

8.如权利要求7所述的离子源维护方法，其特征在于，所述保护气体为氮气、氩气或其他惰性保护气体。

9.如权利要求7所述的离子源维护方法，其特征在于，所述维护操作包括清洗所述离子源、更换离子源部件或更换所述离子源。

10.如权利要求7所述的离子源维护方法，其特征在于，还包括：

于所述维护操作完成后，停止填充保护气体，安装所述真空法兰；

对所述离子源维护腔进行抽真空以使所述离子源维护腔的真空度与所述真空腔体的真空度相当时，开启所述插板阀，使所述离子源与所述真空腔体连通。