[发明专利]一种阵列基板及液晶显示面板有效

专利信息
申请号: 201510410284.6 申请日: 2015-07-13
公开(公告)号: CN105093639B 公开(公告)日: 2018-09-04
发明(设计)人: 叶成亮;付如海;邱杰;张君恺;林永伦 申请(专利权)人: 深圳市华星光电技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335;G02F1/1362
代理公司: 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 代理人: 黄威
地址: 518132 广东*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列 液晶显示 面板
【说明书】:

发明提供一种阵列基板及液晶显示面板,所述阵列基板包括:衬底基板、第一金属层、色阻层、黑色矩阵层、透明导电层,所述色阻层包括多个彩膜色阻;其中相邻两个所述彩膜色阻之间间隔设置。本发明的阵列基板及液晶显示面板,通过将彩膜色阻间隔设置,避免彩膜色阻之间重叠,从而使得阵列基板的表面更平整,减少暗纹。

【技术领域】

本发明涉及液晶显示器技术领域,特别是涉及一种阵列基板及液晶显示面板。

【背景技术】

现有的液晶显示面板包括:第一基板、第二基板19,第一基板譬如为BOA(BM onArray)基板,BOA基板是在阵列基板上制作彩色滤光膜和黑色矩阵;其包括衬底基板11、屏蔽金属线12、位于屏蔽金属线12和数据线之间的绝缘层13;数据线14、色阻层15、黑色矩阵层16、透明导电层17、液晶层18;色阻层15包括红色彩膜101、绿色彩膜102、蓝色彩膜103。为了降低数据线与透明导电层之间的耦合电容,液晶显示器在数据线14的两边增加屏蔽金属线12起到屏蔽作用,屏蔽金属线12与数据线14之间的间隔距离约3-4微米。BOA技术通过黑色矩阵对数据线14与屏蔽金属线12之间的缝隙进行遮挡。

然而现有的制作方法,使得数据线14上方的相邻两个彩膜色阻之间重叠太高,导致像素边缘液晶倒向方向,使得液晶分子的倒向不一致。特别是在亮态情况下,像素边缘的液晶由于上述厚度差的影响,产生暗纹,降低面板的对比度,如图2所示,数据线14和扫描线20限定多个像素104、105;在像素104和105的边缘出现了暗纹。

因此,有必要提供一种阵列基板及液晶显示面板,以解决现有技术所存在的问题。

【发明内容】

本发明的目的在于提供一种阵列基板及液晶显示面板,以解决现有技术中的相邻彩膜色阻之间由于重叠,使得阵列基板侧的表面不平整,容易出现暗纹的技术问题。

为解决上述技术问题,本发明构造了一种阵列基板,其包括:

衬底基板;

第一金属层,位于所述衬底基板上,包括多条所述数据线;

色阻层,位于所述第一金属层上,所述色阻层包括多个彩膜色阻;其中相邻两个所述彩膜色阻之间间隔设置;

黑色矩阵层,位于两个所述彩膜色阻之间,所述黑色矩阵层包括多个黑色矩阵;以及

透明导电层,位于所述黑色矩阵层上。

在本发明的阵列基板中,所述阵列基板还包括屏蔽金属层,所述屏蔽金属层位于所述衬底基板和所述第一金属层之间,所述屏蔽金属层包括多条屏蔽金属线;

相邻两个所述彩膜色阻之间的间距根据第一间距设置,所述第一间距为第一投影与第二投影之间的间距,所述第一投影为所述数据线在所述衬底基板上的投影;所述第二投影为与所述数据线相应的所述屏蔽金属线在所述衬底基板上的投影。

在本发明的阵列基板中,相邻两个所述彩膜色阻之间的间距为2-4微米。

在本发明的阵列基板中,所述黑色矩阵的厚度和所述彩膜色阻的厚度相等。

在本发明的阵列基板中,所述阵列基板还包括屏蔽金属层,所述屏蔽金属层位于所述衬底基板和所述第一金属层之间,所述屏蔽金属层包括多条屏蔽金属线;

所述黑色矩阵用于遮挡所述数据线与相应的所述屏蔽金属线之间的间隙。

在本发明的阵列基板中,在所述第一金属层和所述色阻层之间设置有第一绝缘层。

本发明还提供一种液晶显示面板,其包括:

对置基板,与阵列基板相对设置;

液晶层,位于所述对置基板和所述阵列基板之间;以及

所述阵列基板,其包括:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市华星光电技术有限公司,未经深圳市华星光电技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510410284.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top