[发明专利]一种超临界二氧化碳染色设备中釜体的清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种超临界二氧化碳染色设备中釜体的清洗装置，其特征在于：包括二氧化碳入口管道（1）、溶剂入口管道（2）、中心轴（3）、叶轮（4）、清洗浓度检测探头（6）、电动机（7）、丝杠（8），加热单元（9）；

其中，中心轴（3）为两端开口的中空结构；所述中心轴（3）内部和丝杠（8）外部设有相互匹配的螺纹；所述中心轴和丝杠通过螺纹进行连接；所述丝杠（8）顶部通过气孔连接叶轮（4）；所述丝杠（8）为中空结构；所述叶轮（4）为中空、双吸、开放结构；所述叶轮（4）设有6个叶片（5）；所述叶片（5）为后弯式、机翼型、中空结构；所述叶片（5）外缘设有叶片孔道（10），所述叶片孔道为双排孔；

所述中心轴（3）中部连接电动机（7）；

二氧化碳入口管道（1）通过旋转接头连接中心轴（3）底部、所述溶剂入口管道（2）通过阀门连接二氧化碳入口管道（1）；所述溶剂入口管道上设有加热单元（9）；

所述叶轮顶部设有清洗浓度检测探头（6）。

2.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于：中心轴旋转速度为10-500r/min，叶轮升降速度为0.5-5m/min。

3.根据权利要求1所述清洗装置，其特征在于：叶片入口角、出口角小于90°；叶片孔道孔径大小为0.5-2mm，孔间距为0.5mm。

4.利用权利要求1-3任意一项所述清洗装置清洗染料釜或染色釜或分离釜的方法。

5.根据权利要求4所述清洗装置清洗染料釜或染色釜或分离釜的方法，其特征在于：清洗条件为50-100℃、10-25MPa，清洗的同时清洗浓度检测探头（6）进行自动检测，清洗时间为20-60min。

6.根据权利要求5所述清洗装置清洗染料釜或染色釜或分离釜的方法，其特征在于：所述清洗溶剂为乙醇、甲醇、水。

7.根据权利要求6所述清洗装置清洗染料釜或染色釜或分离釜的方法，其特征在于：清洗溶剂用量为二氧化碳总质量的0.5-5%。