[发明专利]一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺及其封装结构有效

专利信息
申请号: 201510413571.2 申请日: 2015-07-14
公开(公告)号: CN104992955B 公开(公告)日: 2018-03-16
发明(设计)人: 冯光建;靖向萌 申请(专利权)人: 华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙)32104 代理人: 殷红梅,涂三民
地址: 214135 江苏省无锡市新区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 背照式 图像传感器 晶圆级 封装 工艺 及其 结构
【权利要求书】:

1.一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是该封装工艺包括以下步骤:

a、取已经在其正面做出引线(5)和图像传感器(6)的CIS晶圆(1),在CIS晶圆(1)的正面键合上负载晶圆(2),以负载晶圆(2)做支撑将CIS晶圆(1)的背面减薄,在已经减薄的CIS晶圆(1)的背面做上滤光镜(3)和微透镜(4);

b、在CIS晶圆(1)的背面的边缘位置用第一粘结胶(7)进行覆盖,该第一粘结胶(7)在CIS晶圆(1)的背面边缘形成一个封闭环形,在该封闭环形内用第二粘结胶(8)进行涂布,且单位面积的第二粘结胶(8)的粘结力小于单位面积的第一粘结胶(7)的粘结力,在第二粘结胶(8)和第一粘结胶(7)的背面键合上封盖(9);

c、以封盖(9)做支撑将负载晶圆(2)减薄,并在已经减薄的负载晶圆(2)内做出导电柱(10),在导电柱(10)的上端部沉积出导电层(11);

d、去除第一粘结胶(7)的粘性,使CIS晶圆(1)和封盖(9)分离,清洗CIS晶圆(1)和封盖(9)以除去第二粘结胶(8),最后进行切割,得到背照式图像传感器的晶圆级封装结构。

2.如权利要求1所述的一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是:所述CIS晶圆(1)的材质为硅,且CIS晶圆(1)的厚度为50~200µm;所述负载晶圆(2)为裸硅晶圆、无机玻璃晶圆、半导体材料晶圆、氧化物晶体晶圆、陶瓷晶圆、金属晶圆或有机塑料晶圆,且负载晶圆(2)的厚度为200~500µm。

3.如权利要求1所述的一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是:步骤b中,第一粘结胶(7)的材质为苯并环丁烯、热塑性环氧树脂或者UV环氧树脂,第一粘结胶(7)的宽度为1~5mm,第一粘结胶(7)的厚度为10nm ~300µm;所述第二粘结胶(8)的材质为十二烯,第二粘结胶(8)的厚度为10nm ~300µm。

4.如权利要求1所述的一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是:所述封盖(9)的材质为无机玻璃、半导体材料、氧化物晶体、陶瓷、金属或有机塑料,且封盖(9)的厚度为100~500µm。

5.如权利要求1所述的一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是:步骤a中,在CIS晶圆(1)的正面通过硅硅键合、硅氧键合、氧氧键合或者用胶粘合方式与负载晶圆(2)实现键合。

6.如权利要求1所述的一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是:步骤b中,在对应BSI面的感光区域边缘的CIS晶圆上通过涂布、喷涂、贴膜或者注塑方式上第一粘结胶。

7.如权利要求1所述的一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是:步骤d中,通过去胶液浸泡CIS晶圆(1)去除第一粘结胶(7),或者通过加热或者激光照射去除第一粘结胶(7)。

8.如权利要求1所述的一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是:步骤c中,负载晶圆(2)减薄后的厚度控制在90~120µm。

9.如权利要求1所述的一种背照式图像传感器的晶圆级封装工艺,其特征是:所述导电柱(10)的上端面与负载晶圆(2)的正面平齐。

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