[发明专利]用于调光器件的钯铌催化薄膜材料、具有该材料的调光镜、及其制备方法

权利要求书

1.一种用于调光器件的钯铌催化薄膜材料，其特征在于，所述薄膜材料是Pd-Nb合金薄膜，化学组成为Pd_100-xNb_x，其中0＜x＜20。

2.根据权利要求1所述的钯铌催化薄膜材料，其特征在于，所述薄膜材料的厚度在1～10 nm之间。

3.一种调光镜，其特征在于，包括：

基片、

形成在所述基片上的气致变色的调光层、和

形成于所述调光层表面上的根据权利要求1或2所述的钯铌催化薄膜材料。

4.根据权利要求3所述的调光镜，其特征在于，所述调光层为稀土金属薄膜或镁合金薄膜，所述镁合金薄膜为镁二元合金材料MgM_δ或镁三元合金材料MgM_yN_z，其中M为Ni、Ti、V、Nb、Y、Zr、Mo、Cu、V、Co、Mn、W、Fe、La、Ca、Sr、和Ba中的任意一种，N为Ni、Ti、V、Nb、Y、Zr、Mo、Cu、V、Co、Mn、和W中的任意一种，0＜δ＜1，0＜y＜1，0＜z＜1。

5.根据权利要求3或4所述的调光镜，其特征在于，所述调光层的厚度在10～200 nm之间。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的调光镜，其特征在于，所述基片为玻璃、柔性基片、导电玻璃、金属片、或硅基片。

7.一种权利要求1或2所述的钯铌催化薄膜材料的制备方法，其特征在于，利用物理气相沉积法共溅射沉积纯金属Pd与Nb，以获得所述钯铌催化薄膜材料。

8.一种权利要求3至5中任一项所述的调光镜的制备方法，其特征在于，通过物理气相沉积法在所述基片共溅射沉积调光层后，原位共溅射沉积钯铌催化薄膜材料，以获得所述调光镜。

9.根据权利要求7或8所述的制备方法，其特征在于，在所述物理气相沉积法中，溅射室的本底真空度为10^-5Pa以下。

10.根据权利要求7至9中任一项所述的制备方法，其特征在于，通过调节溅射功率来控制调光层和/或钯铌催化薄膜材料的组分，通过调节溅射时间来控制调光层和/或钯铌催化薄膜材料的厚度。