[发明专利]三联吡啶基团修饰的纳米二氧化硅粒子的制备和应用有效
申请号: | 201510423330.6 | 申请日: | 2015-07-20 |
公开(公告)号: | CN105384769B | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 王克志;贾嘉;周红艳;亢思元 | 申请(专利权)人: | 北京师范大学 |
主分类号: | C07F7/21 | 分类号: | C07F7/21;G01N21/31;G01N21/78 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100875 北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 三联 吡啶 基团 修饰 纳米 二氧化硅 粒子 制备 应用 | ||
【权利要求书】:
1.一种三联吡啶基团共价修饰的纳米二氧化硅复合材料,其具体结构如下式所示:
2.一种权利要求1所述的纳米二氧化硅复合材料的用途,其特征在于:该材料用于水溶液中二价铁离子的分光光度法和裸眼比色法测定。
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