[发明专利]一种正负极片密度及厚度一致性轧制装置在审

专利信息
申请号: 201510429164.0 申请日: 2015-07-21
公开(公告)号: CN106711403A 公开(公告)日: 2017-05-24
发明(设计)人: 毛金验 申请(专利权)人: 东莞力朗电池科技有限公司
主分类号: H01M4/139 分类号: H01M4/139
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 523000 广东省东*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 负极 密度 厚度 一致性 轧制 装置
【说明书】:

技术领域

发明涉及一种电池生产组件,特别涉及一种正负极片密度及厚度一致性轧制装置,属于锂电池生产设备技术领域。

背景技术

圆柱锂离子电池分为磷酸铁锂、钴酸锂、锰酸锂、钴锰混合、三元材料不同体系,外壳分为钢壳和聚合物两种,不同材料体系电池有不同的优点;现有技术中主要以钢壳圆柱磷酸铁锂电池为主,铁锂电池表现为容量高、输出电压高、良好的充放电循环性能、输出电压稳定、能大电流放电、电化学稳定性能、使用中安全,不会因过充电、过放电及短路等操作不当而引起燃烧或爆炸,工作温度范围宽、对环境友好;广泛应用于太阳能灯具、草坪灯具、后备能源、电动工具、玩具模型上;对于圆柱型锂电池,其正负极片质量直接影响电池质量,现有技术中正负极片生产过程为:先通过涂布机进行涂布,接着通过辊压机进行轧制,辊压机轧制仅仅是保证其有一个比较好的密度,但其一致性很难得到保证;且其密度只是相对比原来有一个提高,并没有真正实现高密度要求。

发明内容

(一)要解决的技术问题

为解决上述问题,本发明提出了一种正负极片密度及厚度一致性轧制装置,能够保证正负极片一致性,且其密度比较高。

(二)技术方案

本发明的正负极片密度及厚度一致性轧制装置,包括涂料带导料装置,及设置于涂料带导料装置输出端的连续制片装置,及设置于辊压装置输出端的料带缓冲装置,及设置于料带缓冲装置后侧的压料装置,及设置于压料装置输出端的极片打磨装置,及设置于极片打磨装置输出端的重锤压料装置,及设置于重锤压料装置输出端的收料装置;

所述涂料带导料装置包括上导轮座和下导轮座,及设置于上导轮座和下导轮座之间的多个平衡导轮;

所述连续制片装置包括加热箱,及设置于加热箱内侧的制片辊组;

所述料带缓冲装置由上腔和下腔组成;

所述压料装置包括升降滑座,及设置于升降滑座上的压头,及设置于压头下方的受力座;

所述极片打磨装置包括定位架,及设置于定位架前端的打磨头;

所述重锤压料装置包括电锤,及设置于电锤前端的冲击头,及设置于冲击头下方的支撑座。

进一步地,所述打磨头为细沙打磨头。

进一步地,所述下腔内侧为锥形空心结构。

有益效果

与现有技术相比,本发明的正负极片密度及厚度一致性轧制装置,通过连续制片装置进行初步加热制片,通过重锤压料装置进行冲击性下压,接着通过极片打磨装置打磨掉张紧的料带多余的厚度,接着收料装置收料,其经过打磨后的料带至少经过两次重锤压料装置进行冲击性下压;其能够保证极片的一致性,且提高其密度。

附图说明

图1是本发明的整体结构示意图。

具体实施方式

如图1所示的正负极片密度及厚度一致性轧制装置,包括涂料带导料装置1,及设置于涂料带导料装置输出端的连续制片装置2,及设置于辊压装置输出端的料带缓冲装置3,及设置于料带缓冲装置后侧的压料装置4,及设置于压料装置输出端的极片打磨装置5,及设置于极片打磨装置输出端的重锤压料装置6,及设置于重锤压料装置输出端的收料装置7;

所述涂料带导料装置1包括上导轮座8和下导轮座9,及设置于上导轮座和下导轮座之间的多个平衡导轮10;

所述连续制片装置2包括加热箱11,及设置于加热箱内侧的制片辊组12,

所述料带缓冲装置3由上腔13和下腔14组成;

所述压料装置4包括升降滑座15,及设置于升降滑座上的压头16,及设置于压头下方的受力座17;

所述极片打磨装置5包括定位架18,及设置于定位架前端的打磨头19;

所述重锤压料装置6包括电锤20,及设置于电锤前端的冲击头21,及设置于冲击头下方的支撑座22。

所述打磨头19为细沙打磨头。

所述下腔14内侧为锥形空心结构。

工作时,通过涂布机进行涂料,其每一处的涂料厚度都不略大于极片要求的厚度,通过连续制片装置进行初步加热制片,接着将完成初步制片的料带送至料带缓冲装置进行冷却和初步定型,接着通过压料装置和收料装置配合将料带张紧,此时重锤压料装置进行冲击性下压,接着通过极片打磨装置打磨掉张紧的料带多余的厚度,接着收料装置收料,其经过打磨后的料带至少经过两次重锤压料装置进行冲击性下压。

上面所述的实施例仅仅是对本发明的优选实施方式进行描述,并非对本发明的构思和范围进行限定。在不脱离本发明设计构思的前提下,本领域普通人员对本发明的技术方案做出的各种变型和改进,均应落入到本发明的保护范围,本发明请求保护的技术内容,已经全部记载在权利要求书中。

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