[发明专利]一种曝光镜头保护结构在审

专利信息
申请号: 201510434788.1 申请日: 2015-07-21
公开(公告)号: CN104965393A 公开(公告)日: 2015-10-07
发明(设计)人: 张磊;王晓光;卫功文 申请(专利权)人: 合肥芯硕半导体有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G02B7/02
代理公司: 北京和信华成知识产权代理事务所(普通合伙) 11390 代理人: 胡剑辉
地址: 230000 安徽省合肥*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 曝光 镜头 保护 结构
【权利要求书】:

1.一种曝光镜头保护结构,其特征在于,包括镜筒,所述镜筒内最底端镜片通过光学胶固定在镜筒内壁,所述镜片下端设置有保护玻璃,所述保护玻璃与镜筒内壁无缝连接,所述保护玻璃下方还设有若干通气结构,所述通气结构在镜筒内所述保护玻璃下方产生向下的气流。

2.如权利要求1所述的曝光镜头保护结构,其特征在于,所述通气结构包括所述镜筒表面的通气口与设于所述通气孔内的通气管,所述通气管出口位于所述镜筒内朝下设置。

3.如权利要求2所述的曝光镜头保护结构,其特征在于,所述通气孔与通气管数量为多个,所述通气管口设于所述保护玻璃边缘的下方。

4.如权利要求3所述的曝光镜头保护结构,其特征在于,所述通气管通入的空气经过净化的不含有机气体的压缩空气。

5.如权利要求1所述的曝光镜头保护结构,其特征在于,所述保护玻璃其下端连接有压圈,所述保护玻璃通过压圈与所述镜筒连接。

6.如权利要求5所述的曝光镜头保护结构,其特征在于,所述压圈通过螺纹与所述镜头连接。

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