[发明专利]一种高透低成本可调色低辐射节能玻璃及其制备方法

权利要求书

1.一种高透低成本可调色低辐射节能玻璃，其特征在于:所述高透低成本可调色低辐射节能玻璃包括玻璃基片、阻挡层、第一透明导电薄膜层、金属功能膜层、第二透明导电薄膜层、调色层和保护层，在玻璃基片上由内向外方向依次为阻挡层、第一透明导电薄膜层、金属功能膜层、第二透明导电薄膜层、调色层和保护层；由内向外方向是指远离玻璃基片方向，玻璃基片为最内层。

2.根据权利要求1所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃，其特征在于:所述第一透明导电薄膜层的材质为氧化铟锡、氧化锌铝或氧化锡中的任意一种；所述第二透明导电薄膜层为氧化铟锡、氧化锌铝或氧化锡中的任意一种；

所述第一透明导电薄膜层的厚度为15～100nm，所述第二透明导电薄膜层的厚度为15～100nm；

所述氧化铟锡由氧化铟和氧化锡组成，所述氧化铟和氧化锡的质量比为1:99～1:9；所述氧化锌铝由氧化铝和氧化锌组成，所述氧化铝和氧化锌的质量比为1:99～2:23。

3.根据权利要求1所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃，其特征在于:所述金属功能膜层的厚度为8～15nm，所述金属为银、钛、铜或镁中的任意一种。

4.根据权利要求1所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃，其特征在于:所述阻挡层的材质为氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中的任意一种，所述阻挡层的厚度为20～40nm。

5.根据权利要求1所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃，其特征在于:所述调色层的材质为氮化钛，所述调色层的厚度为20～35nm。

6.根据权利要求1所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃，其特征在于:所述保护层的材质为氧化硅、氮化硅或氮氧化硅中的任意一种，所述保护层的厚度为35～60nm。

7.权利要求1所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃的制备方法，其特征在于包括如下步骤:

(1)玻璃基片送入磁控溅射进片室后，开启粗抽泵即机械泵抽真空，当真空度为1Pa时，启动真空室内传动系统，打开进片室和缓冲室之间的隔离阀，基片架进入缓冲室，抽真空度至0.1～0.7Pa，

(2)打开隔离阀，进入镀膜工艺腔体室，开启真空泵抽本底真空≤1.0×10^-4Pa时后，充入工艺气体和工作气体；充入气体后，保持镀膜真空度为0.1～0.7Pa，工作湿度为≤50％，温度为18～30℃、洁净度为十万量级以上的镀膜环境下；

采用人工或自动化上片方式，将玻璃基片镀膜面正对靶材方向输出到基片架并传送至磁控溅射设备腔体内部，玻璃基片架到溅射设备阴极靶面的距离为8～25cm；开启镀膜中频电源或直流电源，采用恒电流为5～40A或恒功率为5～40kw，起辉后传动基片架，在玻璃基片上依次溅射形成阻挡层；

(3)打开隔离阀，进入透明导电膜腔体室，采用类似步骤(2)中的方法溅射第一透明导电膜层，当第一透明导电膜层溅射完成后，打开隔离阀进入金属功能膜层溅射过程，所述工作气体为氩气；通入氩气，然后依次溅射完成第二透明导电膜层、调色层和保护层；

制备过程中，第一透明导电薄膜层和第二透明导电薄膜层、阻挡层、调色层、保护层混合相应工艺气体，所述工艺气体为氧气或氮气。

8.根据权利要求7所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃的制备方法，其特征在于:

在步骤(3)中，所述第一透明导电薄膜层的材质为氧化铟锡、氧化锌铝或氧化锡中的任意一种，所述第一透明导电薄膜层的厚度为15～100nm；

所述氧化铟锡由氧化铟和氧化锡组成，所述氧化铟和氧化锡的质量比为1:99～1:9；所述氧化锌铝由氧化铝和氧化锌组成，所述氧化铝和氧化锌的质量比为1:99～2:23；

所述第二透明导电薄膜层的材质为氧化铟锡、氧化锌铝或氧化锡中的任意一种，所述第二透明导电薄膜层的厚度为15～100nm；

所述金属功能膜层的厚度为8～15nm，所述金属功能膜层的材质为银、钛、铜或镁中的任意一种。

9.根据权利要求7所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃的制备方法，其特征在于:

在步骤(3)中，所述阻挡层的材质为氧化硅或氮化硅中的任意一种，所述阻挡层的厚度为20～40nm；所述调色层的材质为氮化钛，所述调色层的厚度为20～35nm。

10.根据权利要求7所述的高透低成本可调色低辐射节能玻璃的制备方法，其特征在于:在步骤(3)中，所述保护层的材质为氧化硅或氮化硅中的任意一种，所述保护层的厚度为35～60nm。