[发明专利]蚀刻液组合物及蚀刻方法在审
申请号: | 201510438550.6 | 申请日: | 2015-07-23 |
公开(公告)号: | CN105297022A | 公开(公告)日: | 2016-02-03 |
发明(设计)人: | 河野良;清水寿和 | 申请(专利权)人: | 关东化学株式会社 |
主分类号: | C23F1/44 | 分类号: | C23F1/44 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 崔佳佳;马莉华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蚀刻 组合 方法 | ||
1.蚀刻液组合物,它是用于对包括由Ti或以Ti为主要成分的合金形成的含Ti层、由Al或以Al为主要成分的合金形成的含Al层、含In的金属氧化物层的金属层叠膜的含Ti层和含Al层进行一次性蚀刻的蚀刻液组合物,其中,
包含氟化合物以及
选自磷的含氧酸、金属盐、有机溶剂、铵盐和季铵化合物的一种或两种以上,
呈酸性。
2.如权利要求1所述的蚀刻液组合物,其中,作为氟化合物,包含选自氢氟酸、氟化铵、氟化钠、六氟硅酸和四氟硼酸的一种或两种以上。
3.如权利要求1或2所述的蚀刻液组合物,其中,作为金属盐,包含选自铁盐、锆盐、锡盐、碱金属盐和碱土金属盐的一种或两种以上。
4.如权利要求3所述的蚀刻液组合物,其中,碱金属盐为乙酸钠和/或乙酸钾。
5.如权利要求1~4中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,作为有机溶剂,包含醇化合物和/或羧酸化合物。
6.如权利要求1~5中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,作为铵盐,包含选自硝酸铵、磷酸铵、硫酸铵、乙酸铵的一种或两种以上。
7.如权利要求1~6中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,金属氧化物层包含选自Zn、Al、Ga、Sn的至少一种以上的元素。
8.如权利要求1~7中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,pH在4.0以下。
9.如权利要求1~8中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,还包含选自硝酸、盐酸、硫酸、甲磺酸和高氯酸的一种或两种以上的酸。
10.金属层叠膜的蚀刻方法,其中,
具有使用蚀刻液组合物对包括由Ti或以Ti为主要成分的合金形成的含Ti层、由Al或以Al为主要成分的合金形成的含Al层、含In的金属氧化物层的金属层叠膜的含Ti层和含Al层进行一次性蚀刻的步骤,
其中,所述蚀刻液组合物包含氟化合物以及选自磷的含氧酸、金属盐、有机溶剂、铵盐和季铵化合物的一种或两种以上,呈酸性。
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