[发明专利]蚀刻液组合物及蚀刻方法在审

专利信息
申请号: 201510438550.6 申请日: 2015-07-23
公开(公告)号: CN105297022A 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 河野良;清水寿和 申请(专利权)人: 关东化学株式会社
主分类号: C23F1/44 分类号: C23F1/44
代理公司: 上海一平知识产权代理有限公司 31266 代理人: 崔佳佳;马莉华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 蚀刻 组合 方法
【权利要求书】:

1.蚀刻液组合物,它是用于对包括由Ti或以Ti为主要成分的合金形成的含Ti层、由Al或以Al为主要成分的合金形成的含Al层、含In的金属氧化物层的金属层叠膜的含Ti层和含Al层进行一次性蚀刻的蚀刻液组合物,其中,

包含氟化合物以及

选自磷的含氧酸、金属盐、有机溶剂、铵盐和季铵化合物的一种或两种以上,

呈酸性。

2.如权利要求1所述的蚀刻液组合物,其中,作为氟化合物,包含选自氢氟酸、氟化铵、氟化钠、六氟硅酸和四氟硼酸的一种或两种以上。

3.如权利要求1或2所述的蚀刻液组合物,其中,作为金属盐,包含选自铁盐、锆盐、锡盐、碱金属盐和碱土金属盐的一种或两种以上。

4.如权利要求3所述的蚀刻液组合物,其中,碱金属盐为乙酸钠和/或乙酸钾。

5.如权利要求1~4中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,作为有机溶剂,包含醇化合物和/或羧酸化合物。

6.如权利要求1~5中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,作为铵盐,包含选自硝酸铵、磷酸铵、硫酸铵、乙酸铵的一种或两种以上。

7.如权利要求1~6中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,金属氧化物层包含选自Zn、Al、Ga、Sn的至少一种以上的元素。

8.如权利要求1~7中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,pH在4.0以下。

9.如权利要求1~8中的任一项所述的蚀刻液组合物,其中,还包含选自硝酸、盐酸、硫酸、甲磺酸和高氯酸的一种或两种以上的酸。

10.金属层叠膜的蚀刻方法,其中,

具有使用蚀刻液组合物对包括由Ti或以Ti为主要成分的合金形成的含Ti层、由Al或以Al为主要成分的合金形成的含Al层、含In的金属氧化物层的金属层叠膜的含Ti层和含Al层进行一次性蚀刻的步骤,

其中,所述蚀刻液组合物包含氟化合物以及选自磷的含氧酸、金属盐、有机溶剂、铵盐和季铵化合物的一种或两种以上,呈酸性。

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