[发明专利]用于消除因光罩随机错误而产生的晶圆坏点的方法有效
申请号: | 201510442738.8 | 申请日: | 2015-07-24 |
公开(公告)号: | CN106371291B | 公开(公告)日: | 2018-09-21 |
发明(设计)人: | 杜杳隽 | 申请(专利权)人: | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F1/36;G03F1/72;G03F1/84 |
代理公司: | 北京市磐华律师事务所 11336 | 代理人: | 董巍;高伟 |
地址: | 201203 *** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 消除 随机 错误 产生 晶圆坏点 方法 | ||
【说明书】:
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司,未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201510442738.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:着色固化性树脂组合物、滤色器和显示装置
- 下一篇:一种双面光刻工件台