[发明专利]氮化镓高电子迁移率晶体管小信号模型参数提取方法有效
申请号: | 201510444419.0 | 申请日: | 2015-07-27 |
公开(公告)号: | CN105138730B | 公开(公告)日: | 2018-05-18 |
发明(设计)人: | 徐跃杭;闻彰;汪昌思;赵晓冬;陈志凯;徐锐敏 | 申请(专利权)人: | 电子科技大学 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人: | 李明光 |
地址: | 611731 四川省成*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氮化 电子 迁移率 晶体管 信号 模型 参数 提取 方法 | ||
1.一种氮化镓高电子迁移率晶体管小信号模型参数提取方法,具体包括以下步骤:
步骤1.寄生参数初值提取:
本发明采用GaN HEMT 20元件等效电路模型,包括寄生电路和本征电路,所述寄生电路包括外层寄生电容C
步骤1-1:用矢量网络分析仪和探针台对处于夹断状态的GaN HEMT器件在其工作频段内进行离散频率的二端口S参数测试采样:GaN HEMT器件的源极接地,栅极为端口1,漏极为端口2,栅极-源极的偏置电压V
步骤1-2:用矢量网络分析仪和探针台对处于栅极前向偏置状态的GaN HEMT器件进行离散频率的二端口S参数测试采样:GaN HEMT器件的源极接地,栅极为端口1,漏极为端口2,栅极-源极的偏置电压V
步骤1-3:在步骤1-1的测试条件,所述GaN HEMT 20元件等效电路模型可简化为只包含寄生电容及本征电容的简化电路模型,简化电路模型的栅-漏、栅-源和漏-源分支总电容可表示为:
C
C
C
所述简化电路模型的Y参数为:
Y
Y
Y
其中,栅极为端口1,漏极为端口2,ω=2πf为采样频率f对应的角频率;将步骤1-1所得的夹断状态下多个离散频率采样点的S参数转化为相应Y参数并构建Y参数关于角频率ω的拟合直线,提取每条拟合直线的斜率值,根据式(4)、(5)、(6)可知Y
步骤1-4:采用去嵌技术剥离所述GaN HEMT 20元件等效电路中的电容C
根据本步骤所述去嵌后等效电路的Z参数可得寄生电感和寄生电阻的关系式如下:
ω
ω
ω
采用去嵌技术,将步骤1-1所得的夹断状态下多个离散频率采样点的S参数中电容C
步骤1-5:采用去嵌技术,将步骤1-2所得的栅极前向偏置状态下多个离散频率采样点的S参数中电容C
步骤1-6:根据步骤1-3、1-4、1-5可知,以C
步骤2.寄生参数优化:
步骤2-1:将步骤1-6所提取的S参数残差ε最小的一组元件值作为初值;
步骤2-2:设C
步骤2-3:固定寄生电感L
步骤2-4:固定初值中的寄生电感L
步骤2-5:固定步骤2-4所选取的S参数残差ε最小的一组元件值中的寄生电容值和寄生电阻值,扫描寄生电感L
步骤2-6:按步骤1-4至步骤1-5所述方法,求得寄生电阻值R
至此,步骤2-3至步骤2-6完成了一次迭代过程;
步骤2-7:设定残差阈值,重复执行步骤2-3至步骤2-6,直至误差函数ε小于残差阈值时止,提取当前外层寄生电容C
步骤3.本征参数提取:
步骤3-1:用矢量网络分析仪和探针台对处于正常工作状态的GaN HEMT器件进行离散频率下的二端口S参数测试采样:GaN HEMT器件的源极接地,栅极为端口1,漏极为端口2,设定栅极-源极的扫描电压范围及扫描间隔,设定漏极-源极的扫描电压范围及扫描间隔;
步骤3-2:基于所述的GaN HEMT 20元件等效电路,将步骤3-1所得的正常工作状态下多个离散频率采样点的S参数中寄生电路的效应剔除,得到本征电路模型的离散频率采样下的等效测试S参数;将本步骤所得等效测试S参数转换为Y参数;
步骤3-3:本征电路部分共八个参数,包括本征电容C
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