[发明专利]一种可调焦距的反射镜

权利要求书

1.一种可调焦距的反射镜，其特征在于：该反射镜包括反射层，薄膜层，第一基板和驱动机构，反射层覆盖于薄膜层的上表面，第一基板位于薄膜层和驱动机构之间，第一基板的高度方向设置第一通孔；驱动机构包括执行器基板和得电后弯曲形变失电后恢复形变的压电膜片，压电膜片粘接固定于执行器基板；薄膜层、第一基板和执行器基板围成一个密封腔体；压电膜片位于密封腔体外，密封腔体将压电膜片的形变传递到薄膜层。

2.如权利要求1所述的可调焦距的反射镜，其特征在于：压电膜片位于执行器基板中部，压电膜片与密封腔体同轴。

3.如权利要求2所述的可调焦距的反射镜，其特征在于：薄膜层上具有第二基板，第二基板在第一基板之上，第二基板的高度方向设置第二通孔，第一通孔和第二通孔同轴，第一通孔大于第二通孔；薄膜层外露于第二基板的部分作为反射区域，反射区域中设置反射层；第一基板和第二基板均为刚性件。

4.如权利要求3所述的可调焦距的反射镜，其特征在于：第二基板的第二通孔为圆形通孔。

5.制作如权利要求2所述可调焦距的反射镜的方法，包括以下步骤：

1）、制备第一基板，第一基板的上表面设置SiO₂层作为薄膜层；在薄膜层的上表面制备反射层；

2）、在第一基板上溅射一层第一铝膜，在第一铝膜上旋涂光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，图形化出孔；以光刻胶为保护层，通过磷酸溶液对第一铝膜进行湿法刻蚀，在第一铝膜上刻蚀出相应的第一窗口，然后除去光刻胶；

3）、以第一铝膜为保护层，对第一基板的硅进行感应耦合等离子ICP或者深反应离子刻蚀DRIE刻蚀，刻蚀到薄膜层截止，刻蚀出第一通孔；

4）、将两面覆有电极的压电膜片用环氧胶粘接到直径铜片上，该铜片作为执行器基板；

5）、将执行器基板粘接到第二基板上以封闭第一通孔，压电膜片外露，可调焦距的反射镜制作完成。

6.如权利要求5所述的制作可调焦距的反射镜的方法，其特征在于：步骤1）中包含以下步骤：

（1.1）、制备第二基板，第二基板的形状和厚度与第一基板相同；使薄膜层位于第一基板和第二基板之间，第一基板在下，第二基板在上；

（1.2）、在第二基板上溅射第二铝膜；然后在第二铝膜上旋涂光刻胶，对光刻胶进行曝光显影，图形化出孔；以光刻胶为保护层，通过磷酸溶液对第二铝膜进行湿法刻蚀，在第二铝膜上刻蚀出相应的窗口；除去光刻胶；窗口的直径小于第一通孔的直径；

(1.3) 以第二铝膜为保护层，对第二基板的硅进行感应耦合等离子ICP或者深反应离子刻蚀DRIE刻蚀，刻蚀到薄膜层截止，刻蚀出第二通孔；

（1.4）在薄膜层外露于第二基板的反射区域内溅射或者真空蒸发银、铝或者金反射层作为反射面。