[发明专利]一种磁控等离子体微孔涂层装置

权利要求书

1.一种磁控等离子体微孔涂层装置，包括真空室(1)，其特征在于：进气筛(2)、出气筛(7)、样品台(6)、工件(5)、磁控环(4)和加热丝(3)位于真空室(1)内；其中

出气筛(7)与进气筛(2)相对设置；

样品台(6)位于进气筛(2)与出气筛(7)之间；

磁控环(4)与工件(5)位于样品台(6)上；

工件(5)具有中孔(9)结构，并放置在磁控环(4)内部；

加热丝(3)与工件(5)的中孔对应位置设置为环状线圈结构；

所述工件的数量为多个，成阵列设置在样品台上；

所述进气筛吹出的气体经过加热丝，受热分解成等离子体，等离子体在气流带动作用下流入工件中孔。

2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：磁控环(4)为金属导线绕制而成，导线通有周期性变化电流，使得磁控环内部产生的磁场具有规律性。

3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：磁控环(4)内部空间能够根据工件尺寸进行调整。

4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：磁控环(4)外壳缠绕有冷却水管(8)，用于对磁控环(4)进行降温。

5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：磁控环(4)的外壳由耐热陶瓷材料密封制成。

6.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：样品台(6)上设置有通孔；通孔与工件(5)的中孔对正。

7.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：工件(5)的中孔(9)为狭长结构。

8.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：加热丝(3)包括上下两支，分别设置在工件(5)的上下两侧，其上施加有电压，在加热丝之间形成电场，并通过改变电压对电场的强度进行调整，从而对等离子体进行加速或减速。

9.根据权利要求8所述的装置，其特征在于：磁控环内部磁场对等离子体中的带电粒子发生作用，从而控制涂层在工件中孔的沉积。