[发明专利]具有保护层的电磁波吸收材料及其制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种具有保护层的电磁波吸收材料及其制造方法。

背景技术

随着电子技术的飞速发展，拥有各种个性化娱乐功能的电子产品的日益普及，也使电子产品迅速向智能化、集成化、轻薄化、多功能化等方向发展。

但是，由于数据传输的速度和频率以及电路板集成度的增加，对改善电磁干扰的环境以降低相邻部件的干扰提出了越来越高的要求。另外智能设备在工作时，会不断往外发射电磁波，最大功率可以达到2w，这对周围环境的影响是很大的。因此，为避免其在工作时相互间及对周围环境的干扰，必须对一些不必要的辐射进行限制。使用可以吸收并损耗磁能的吸波材料可以避免这方面的问题，如在专利EP0667643B1中提出的将磁性材料与橡胶共混形成吸波膜层。

因为吸波材料是含有高填充量吸波剂的膜材，因此其在弯折的时候易于断裂，填充量越高，越易于断裂。特别是对于厚度比较小的吸波膜材(小于0.1mm)，更容易在使用时发生破损。而在吸波材料使用过程中，为了保护电子器件不受到电磁波噪音的干扰，需要将吸波材料弯折来形成盖子来覆盖在器件上。如果吸波材料断裂，则会形成缝隙从而影响电磁波屏蔽效果。

在常规的实施情况中，是在吸波膜材的一侧涂覆胶黏剂层并粘附一层保护膜。但在这种实施方法中，涂覆的胶黏剂层和保护膜层厚度通常大于15um。因为其总厚度很大，并且没有任何电磁屏蔽效能，因此降低了吸波膜材的整体抗电磁干扰能力。并且在智能手机的应用中，对所用的材料的厚度非常敏感，将直接影响手机的组装。

发明内容

本发明的目的在于提供一种具有保护层的电磁波吸收材料及其制造方法，在吸波膜层表面附上高分子保护膜层，有效地增强了吸波膜材的耐刮擦性能和耐弯折性能，并且通过气相沉积的方法形成的保护膜最薄可达到0.05um，使其不会对设备的厚度形成影响，可以方便的贴覆在电子器件上，在满足屏蔽效能要求的同时，还可以通过弯折达到对电磁波更有效的屏蔽功能。

为实现上述目的，本发明提供一种具有保护层的电磁波吸收材料，包括吸波膜层，以及覆于吸波膜层表面的保护膜层；所述吸波膜层为混有软磁性材料粉末的有机粘结剂薄膜，所述保护层为通过气相沉积形成的聚合物膜。

优选的，所述吸波膜层在1MHz频率的磁导率大于30，其组成为50-95％的吸波剂和50-5％的有机粘结剂。

优选的，所述吸波剂的材料为软磁性合金粉末，包括：镍锌铁合金、镍铜铁合金、锌铬铁合金、锰锌铁合金、铌锌铁合金、铁硅铝合金、镍铬铁合金、铌锌铁合金、铁镍合金、铁铝合金，铁钴合金、铁铬合金、铁硅镍合金、铁硅铝镍合金、镁锰铁合金、钴镍合金、锂锰合金、锂镉铁合金。

优选的，所述聚合物膜中的聚合物包括：聚酰亚胺、聚对苯二甲酸乙二酯、聚对二甲苯。

优选的，所述保护膜层的厚度为0.05um-15um。

优选的，所述吸波膜层的厚度为20um-1mm。

优选的，所述吸波膜层的两侧表面都覆有保护膜层。

本发明还提供上述的具有保护层的电磁波吸收材料的制造方法，包括如下步骤：

步骤1，将混有软磁性材料粉末的有机粘结剂通过挤出或涂覆制成电磁波吸收膜层；

步骤2，将聚合物通过气相沉积方法沉积在吸收膜层表面形成保护膜层，保护膜层厚度控制在0.05um-15um。

本发明的优点和有益效果在于：提供一种具有保护层的电磁波吸收材料及其制造方法，在吸波膜层表面附上高分子保护膜层，有效地增强了吸波膜材的耐刮擦性能和耐弯折性能，并且通过气相沉积的方法形成的保护膜最薄可达到0.05um，使其不会对设备的厚度形成影响，可以方便的贴覆在电子器件上，在满足屏蔽效能要求的同时，还可以通过弯折达到对电磁波更有效的屏蔽功能。

附图说明

图1是实施例1的结构示意图；

图2是实施例2的结构示意图；

图3是实施例3的示意图；

图4是对比例1的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本发明的具体实施方式作进一步描述。以下实施例仅用于更加清楚地说明本发明的技术方案，而不能以此来限制本发明的保护范围。

本发明提供一种具有保护层的电磁波吸收材料，包括吸波膜层，以及覆于吸波膜层表面的保护膜层；所述吸波膜层为混有软磁性材料粉末的有机粘结剂薄膜，所述保护层为通过气相沉积形成的聚合物膜。

所述吸波膜层在1MHz频率的磁导率大于30，其组成为50-95％的吸波剂和50-5％的有机粘结剂。