[发明专利]一种显示面板及其制作方法、显示装置在审
申请号: | 201510451481.2 | 申请日: | 2015-07-28 |
公开(公告)号: | CN104965340A | 公开(公告)日: | 2015-10-07 |
发明(设计)人: | 王英涛 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
主分类号: | G02F1/1335 | 分类号: | G02F1/1335;G02F1/1333 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 显示 面板 及其 制作方法 显示装置 | ||
1.一种显示面板,包括第一基板,与所述第一基板相对设置的第二基板,以及位于所述第一基板与所述第二基板之间的液晶层,其特征在于,
所述第一基板具体包括:第一基底,位于所述第一基底中靠近液晶层的一侧的具有偏振作用的第一半透半反膜层。
2.如权利要求1所述的面板,其特征在于,所述第二基板具体包括:第二基底,位于所述第二基底中靠近液晶层的一侧的具有偏振作用的第二半透半反膜层;
其中,所述第二半透半反膜层的偏振方向与所述第一半透半反膜层的偏振方向正交。
3.如权利要求1或2所述的面板,其特征在于,所述第一半透半反膜层和所述第二半透半反膜层均为金属线栅偏振WGP膜层。
4.如权利要求3所述的面板,其特征在于,所述第二基板中的第二WGP膜层具有第一图案,其中,所述第二WGP膜层中保留的膜层区域在所述第二基板上的正投影位于相应的像素的有效显示区域内。
5.如权利要求4所述的面板,其特征在于,所述第二基板还包括:
位于未保留有第二WGP膜层的区域的黑矩阵;
位于所述第二WGP膜层以及黑矩阵之上的第二绝缘膜层;
位于所述第二绝缘膜层之上的栅线和公共电极线,以及第一透明电极;
位于所述栅线和公共电极线之上的平坦化层;
位于所述平坦化层之上的第二透明电极。
6.如权利要求3所述的面板,其特征在于,所述第二基板中的第二WGP膜层呈面状结构;
所述第二基板还包括:
位于所述第二WGP膜层之上的第二绝缘膜层;
位于所述第二绝缘膜层之上的栅线。
7.如权利要求3所述的面板,其特征在于,所述第一基板中的第一WGP膜层中金属线的排布方向与液晶层中液晶长轴的初始排布方向平行或垂直。
8.如权利要求3所述的面板,其特征在于,所述第一基板还包括:
覆盖所述第一WGP膜层的第一绝缘膜层;
位于所述第一绝缘膜层之上的图案化的黑矩阵以及RGB彩色光阻。
9.如权利要求4-8任一所述的面板,其特征在于,所述第一WGP膜层和所述第二WGP膜层中,金属线的宽度取值范围为:100nm-150nm,金属线的高度取值范围为:100nm-300nm,相邻金属线的间距取值范围为:40nm-60nm。
10.一种显示面板的制作方法,包括:制作第一基板,以及制作第二基板,将所述第一基板与所述第二基板对位贴合,并在所述第一基板与所述第二基板之间填充液晶层,其特征在于,
制作第一基板的方式具体包括:提供第一基底,在所述第一基底的一侧面形成具有偏振作用的第一半透半反膜层。
11.如权利要求10所述的方法,其特征在于,制作第二基板的方式具体包括:提供第二基底,在所述第二基底的一侧面形成具有偏振作用的第二半透半反膜层;
其中,所述第二半透半反膜层的偏振方向与所述第一半透半反膜层的偏振方向正交。
12.如权利要求10或11所述的方法,其特征在于,所述第一半透半反膜层和所述第二半透半反膜层均为金属线栅偏振WGP膜层,其中,所述WGP膜层利用纳米压印技术形成。
13.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述第二基板中的第二WGP膜层具有第一图案,其中,所述第二WGP膜层中保留的膜层区域在所述第二基板上的正投影位于相应的像素的有效显示区域内。
14.如权利要求13所述的方法,其特征在于,所述制作第二基板的方式还包括:
在未保留有第二WGP膜层的区域形成黑矩阵;
在所述第二WGP膜层以及黑矩阵之上形成第二绝缘膜层;
在所述第二绝缘膜层之上形成栅线和公共电极线,以及第一透明电极;
在所述栅线和公共电极线之上形成平坦化层;
在所述平坦化层之上形成第二透明电极。
15.如权利要求12所述的方法,其特征在于,所述第二基板中的第二WGP膜层呈面状结构;
所述制作第二基板的方式还包括:
在所述第二WGP膜层之上形成第二绝缘膜层;
在所述第二绝缘膜层之上形成栅线。
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