[发明专利]一种环形腔微片激光器在审
申请号: | 201510453135.8 | 申请日: | 2015-07-29 |
公开(公告)号: | CN104953453A | 公开(公告)日: | 2015-09-30 |
发明(设计)人: | 刘红梅;王城强;欧阳靖;吴季;陈伟 | 申请(专利权)人: | 福建福晶科技股份有限公司 |
主分类号: | H01S3/083 | 分类号: | H01S3/083;H01S3/13 |
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地址: | 350003 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 环形 腔微片 激光器 | ||
技术领域
本发明为涉及激光技术领域,尤其涉及一种环形腔微片激光器。
背景技术
对于环形腔激光器,现阶段采用单块的非平面环形腔激光晶体实现稳定的单频输出。
非平面单块环形腔激光器通常采用Nd:YAG等固体激光介质作为激光晶体,并将整个晶体加工成一个具有三个光学内全反射面及一个输出和输入耦合面的晶体块,整个晶体块即是激光谐振腔。在施加一定磁场后,该晶体不仅作为激光增益介质,同时也兼作法拉第旋光器;三个光学内全反射面既是环形激光谐振腔反射镜,也是相位补偿波片;前表面镀特殊偏振膜,既为输入输出耦合面,同时兼做部分偏振器。由于晶体的磁致旋光性,内全反射的相位延迟性和耦合膜系的部分偏振性使它构成为特别稳定的具有光学单向器特征的激光谐振腔,消除增益空间烧孔,保证单纵模输出。
但是对于非平面单块环形腔激光器,激光晶体的加工复杂,激光介质又同时是磁光晶体,Verdet常数较小,使得腔内正反方向的两种激光模式损耗差很小,只能工作在较低的功率下。
发明内容
本发明克服了现有技术中的不足,提供了一种加工简单、输出稳定的环形腔微片激光器。
为了实现上述目的,本发明采用如下技术方案:
一种环形腔微片激光器,包括激光晶体、半波片、布氏片、磁光晶体,光胶做成微片结构,泵浦光束依次经过全反射腔膜、激光晶体、半波片、磁光晶体,再经部分反射腔膜反射,光束经过布氏片、激光晶体,再经全反射腔膜全反射,形成环形腔结构。
所述的全反射腔膜是泵浦光增透膜和激光晶体产生的信号光的高反膜,镀制于激光晶体的入射端面。所述的部分反射腔膜是泵浦光的高反膜和激光晶体产生的信号光的部分反射膜,镀制于磁光晶体的出射端面。
本发明的有效益果是既保证单纵模的输出,且磁光晶体与激光晶体的加工不含有特殊的角度,加工方便,适合批量生产。
附图说明
图1为本发明环形腔微片激光器的微片结构实施例1示意图;
图2为本发明环形腔微片激光器的微片结构实施例2示意图;
图3为本发明环形腔微片激光器的微片结构实施例3示意图。
具体实施方式
下面针对环形腔微片激光器的微片结构结合附图对本发明做进一步说明:
实施例1:
如图1所示,101为全反射腔膜,是泵浦光增透膜和激光晶体产生的信号光的高反膜,102为激光晶体,103为半波片,104为布氏片,105为磁光晶体,106为部分反射腔膜,是泵浦光的高反膜和激光晶体产生的信号光的部分反射膜。结合腔内的两次全内反射,从而实现环形腔结构。腔内还放置了半波片和布氏片,半波片用作相位控制元件,布氏片用作偏振器,同时也进一步保证了单纵模的输出。
实施例2:
如图2所示,201为全反射腔膜,是泵浦光增透膜和激光晶体产生的信号光的高反膜,202为激光晶体, 203为半波片,204为镀制在磁光晶体上的偏振膜,205为磁光晶体,206为部分反射腔膜,是泵浦光的高反膜和激光晶体产生的信号光的部分反射膜。与实施例1相比,将激光晶体、半波片和磁光晶体光胶形成微片结构,以镀制在磁光晶体入射面上的偏振膜代替布氏片得到偏振光。
实施例3:
如图3所示,301为全反射腔膜,是泵浦光增透膜和激光晶体产生的信号光的高反膜,302为激光晶体,303为镀制在激光晶体上的偏振膜,304为半波片,305为磁光晶体,306为部分反射腔膜,是泵浦光的高反膜和激光晶体产生的信号光的部分反射膜。与实施例2相比,将偏振膜镀制在激光晶体的出射面上。
尽管结合优选实施方案具体展示和介绍了本发明,但所属领域的技术人员应该明白,在不脱离所附权利要求书所限定的本发明的精神和范围内,在形式上和细节上可以对本发明做出各种变化,均为本发明的保护范围。
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