[发明专利]烘烤单元、包括该单元的基板处理设备以及基板处理方法

权利要求书

1.一种烘烤单元，包括：

壳体；

加热单元，其位于所述壳体中，所述加热单元包括加热基板的加热板；

传送单元，其位于所述壳体中，所述传送单元传送基板；以及

冷却单元，其冷却所述加热板或加热过的基板，

其中，所述传送单元包括：基板放置在其上的传送板，并且

其中，所述冷却单元被提供给所述传送板。

2.如权利要求1所述的烘烤单元，其中，所述冷却单元包括设置在所述传送板内的冷却流体路径。

3.如权利要求2所述的烘烤单元，其中，所述壳体包括：

第一侧壁，穿过所述第一侧壁形成入口，基板通过所述入口被传送；以及

第二侧壁，其与所述第一侧壁相对，

其中，相比于所述第一侧壁，所述加热单元定位成更邻近所述第二侧壁。

4.如权利要求3所述的烘烤单元，其中，所述加热单元还包括：

覆盖物，其布置在所述加热板上，所述覆盖物提供包括所述加热板的加热空间；以及

致动器，其以上下方向移动所述覆盖物。

5.如权利要求4所述的烘烤单元，其中，所述加热单元还包括：

升降销，其沿着上下方向可移动穿过在所述加热板中形成的销孔，所述升降销将基板传送到所述传送单元。

6.如权利要求5所述的烘烤单元，其中，所述传送单元还包括：驱动构件，所述驱动构件将所述传送板传送到第一位置和第二位置，

其中所述第一位置邻近所述第一侧壁，并且

其中所述第二位置接近所述第二侧壁并且处在所述加热板之上。

7.如权利要求6所述的烘烤单元，其中，所述升降销插入其中的导向孔形成在所述传送板中，以在所述传送板从所述第一位置移动到所述第二位置时防止所述传送板干扰或碰撞所述升降销，并且

其中所述导向孔从所述传送板的外侧表面延伸到所述传送板的内侧。

8.如权利要求1所述的烘烤单元，还包括：

控制器，其控制所述传送单元和所述冷却单元，

其中，当降低所述加热板的温度时，所述控制器控制所述传送单元和所述冷却单元，使得所述传送板与所述加热板接触或定位成邻近所述加热板并且然后通过所述冷却单元冷却所述加热板。

9.如权利要求1所述的烘烤单元，还包括：

控制器，其控制所述传送单元和所述冷却单元，

其中，当冷却所述加热板上经加热的基板时，所述控制器控制所述传送单元和所述冷却单元，使得在所述加热板上完全处理的基板定位在所述传送板上并且然后使用所述冷却单元冷却所述基板。

10.一种基板处理设备，包括：

烘烤单元，其在基板上进行烘烤工艺；

溶液处理室，其将溶液供应到基板上以执行工艺；以及

传送室，其将基板在所述烘烤单元和所述溶液处理室之间传送，

其中所述烘烤单元包括：

壳体；

加热单元，其位于所述壳体中，所述加热单元包括加热基板的加热板；

传送单元，其位于所述壳体中，所述传送单元传送基板；以及

冷却单元，其冷却所述加热板或已加热的基板，

其中所述传送单元包括：基板放置在其上的传送板，并且

其中所述冷却单元被提供给所述传送板。

11.如权利要求10所述的基板处理设备，其中，所述冷却单元包括：设置在所述传送板内的冷却流体路径。

12.如权利要求11所述的基板处理设备，其中，所述壳体包括：

第一侧壁，穿过所述第一侧壁形成入口，基板通过所述入口被传送；以及

第二侧壁，其与所述第一侧壁相对，

其中，相比于所述第一侧壁，所述加热单元布置成更邻近所述第二侧壁。

13.如权利要求12所述的基板处理设备，其中，所述加热单元还包括：

覆盖物，其布置在所述加热板上，所述覆盖物提供包括所述加热板的加热空间；以及

致动器，其以上下方向移动所述覆盖物。