[发明专利]柔性可降解光电子器件用衬底

权利要求书

1.一种柔性可降解光电子器件用衬底，其特征在于，由以下质量百分比的组分制成：

高强度变性淀粉0.5-1.5％

改性二氧化硅2-6％

电子级硅微粉0.2-0.4％

余量为衬底基材；

所述衬底基材是由以下质量百分比的组分制成：

余量为紫胶。

2.根据权利要求1所述的柔性可降解光电子器件用衬底，其特征在于，上述改性二氧化硅的制备方法如下：

1)按质量比1-3:1-5的比例称取微米二氧化硅粉末和纳米碳化硅粉末；

2)对已称取的二氧化硅和碳化硅粉料以无水乙醇为分散介质，其中粉料与酒精的质量比为1：30，在超声清洗机上超声分散1小时；

3)把经超声分散的混合料放入尼龙球磨罐中，以玛瑙球为磨球，球料质量比为7：1，在转速为150转/分的条件下，在行星式球磨机中连续球磨2小时；

4)将球磨完毕的粉料连同玛瑙磨球一起倒入粉料盘中，在80℃下烘干；

5)把烘干的粉料过筛，取出玛瑙磨球，然后将混合粉研磨，直至无较大团聚为止，至此，制得改性二氧化硅。

3.根据权利要求1所述的柔性可降解光电子器件用衬底，其特征在于，上述高强度变性淀粉为玉米变性淀粉，是通过以下方式制得的：

1)中和反应

将玉米淀粉倒入反应釜中边搅拌边注入蒸气，在反应釜内的蒸气温度达到140℃的条件下，让玉米淀粉在反应釜中得到充分搅拌，使其受热均匀，加热搅拌30-60分钟，至淀粉熟化；

2)投料

把熟化淀粉从反应釜中取出，放入反应罐中注入清水搅拌至无颗粒，使液态淀粉浓度在60％；

3)沉淀

让淀粉浸泡充分、均匀将液态淀粉从反应罐中移出，放入水池中沉淀，经5-7天的沉淀后，取水池内最上面已澄清的淀粉溶液生产备用；水池内下层的淀粉渣再加水、加温搅拌，取上面已澄清的淀粉溶液备用，直至不能澄出液态清液为止；

4)保温水解灭酶

把已澄清淀粉溶液吸到反应罐中，向反应罐内注水蒸气，使已澄清的淀粉溶液加热至65℃，在不断搅拌中起到调浆和高温灭酶的作用，加热搅拌时间为20-40分钟；然后加入木碳灰脱色除渣；最后经过压滤机过滤，流出清彻见底的淀粉溶液；

5)收清水浓缩

将脱色除渣过滤后的淀粉溶液，注入真空浓缩罐中，浓缩淀粉溶液波美度在32度；

6)配料

把浓缩到波美度在32度的淀粉溶液从真空浓缩罐中吸入到搅拌罐中加热至65℃，按玉米淀粉和硼砂与苯钾酸钠质量比例为50：1：0.5，倒入硼砂和苯钾酸钠，使硼砂和苯钾酸钠在加温搅拌下均匀无结块，并能充分溶解到淀粉液中；

7)高温离心喷雾

将已配料完毕的淀粉溶液用高压自吸泵注入到高温离心塔上的罐中待用，在保证淀粉溶液65℃温度条件下，用漏斗缓慢加入高温离心塔内高速离心机中，同时高温离心塔内蒸汽温度保持在150℃以上，使浓缩好的淀粉溶液在经过高速旋转离心机和高温气体的双重作用下形成雾化、粉化，最后落在塔底内部呈粉状，得高强度变性淀粉产成品。