[发明专利]基于CCD的激光熔覆方法在审
| 申请号： | 201510454893.1 | 申请日： | 2015-07-29 |
| 公开（公告）号： | CN104962908A | 公开（公告）日： | 2015-10-07 |
| 发明（设计）人： | 石世宏;陆斌;傅戈雁;方琴琴 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | C23C24/10 | 分类号： | C23C24/10 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 唐灵;常亮 |
| 地址： | 215123 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 ccd 激光 方法 | ||
1.一种基于CCD的激光熔覆方法，其特征在于，所述基于CCD的激光熔覆方法包括如下步骤：
S1.建立零件的三维模型，并对建立的三维模型进行分层处理，获取零件的轮廓层面信息；
S2.设定激光熔覆的参数下，逐层熔覆堆积零件；
S3.通过CCD监控零件堆积过程中，每层的提升量的数值，选取稳定性好的提升量数值，作为基准提升量，记为h1；
S4.根据获取的零件的轮廓层面信息，逐层熔覆堆积零件，同时，CCD计算每层的提升量，记为h2；
S5.每层熔覆过程中，对比h1和相应h2之间的大小关系，根据对比结果，调节激光熔覆的功率，并进行下一层的熔覆；
S6.当零件的总高度大于等于设计高度时，熔覆结束。
2.根据权利要求1所述的基于CCD的激光熔覆方法，其特征在于，所述步骤S2中，所述激光熔覆的参数为：激光功率800w，扫描速度7mm/s，激光离焦量-3.5mm，送粉量8g/min。
3.根据权利要求1所述的基于CCD的激光熔覆方法，其特征在于，所述步骤S2中，逐层堆积的层数为20层。
4.根据权利要求1所述的基于CCD的激光熔覆方法，其特征在于，所述步骤S5具体包括：
S51.当h1大于h2时，降低所述激光熔覆的功率，并进行下一层的熔覆；
S52.当h1等于h2时，保持所述激光熔覆的功率恒定，并进行下一层的熔覆；
S53.当h1小于h2时，提升所述激光熔覆的功率，并进行下一层的熔覆。
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